特許

J-GLOBAL ID：201303091403011880

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 市川 幸司 ,  嶋田 雅彦
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-117115
公開番号（公開出願番号）：特開2013-008023
出願日： 2012年05月23日
公開日（公表日）： 2013年01月10日
要約：

【課題】CD均一性(CDU)に優れたレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、式(B1)で表される塩と、溶剤とを含有するレジスト組成物。[式中、R1は、水素原子又はメチル基;nは1〜3の整数;Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;Lb1は単結合又は2価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Yは置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜18の脂環式炭化水素基を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)式(I)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂、及び (B)式(B1)で表される塩を含有するレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 28/02

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  C08F28/02

Fターム (38件)：

2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ69Y ,  2H125AJ92Y ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AP01P ,  4J100AP01S ,  4J100BA03P ,  4J100BA03S ,  4J100BA11R ,  4J100BA55P ,  4J100BA55S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09S ,  4J100BC53R ,  4J100FA19 ,  4J100JA38