電極製造工程におけるNMP精製システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-154202
公開番号（公開出願番号）：特開2013-018747
出願日： 2011年07月12日
公開日（公表日）： 2013年01月31日
要約：

【課題】NMP水溶液を効率的に脱水する。【解決手段】電極製造工程10から排出されるNMP(N-メチル-2-ピロリドン)を含むNMP水溶液を、水分を選択的に透過させる浸透気化膜を備えた浸透気化装置18によって脱水する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

電極製造工程から排出されるNMP(N-メチル-2-ピロリドン)を含むNMP水溶液を脱水精製するNMP精製システムであって、前記NMP水溶液を、水分を選択的に透過させる浸透気化膜を備えた浸透気化装置で脱水することによって、NMPを精製することを特徴とするNMP精製システム。

IPC (6件)：

C07D 207/267 , B01D 61/36 , B01D 61/14 , B01D 61/16 , B01D 61/58 , C02F 1/42

FI (6件)：

C07D207/267 , B01D61/36 , B01D61/14 500 , B01D61/16 , B01D61/58 , C02F1/42 D

Fターム (36件)：

4C069AB12 , 4C069BA01 , 4C069CC24 , 4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006GA25 , 4D006KA01 , 4D006KA12 , 4D006KA15 , 4D006KA52 , 4D006KA53 , 4D006KA55 , 4D006KA57 , 4D006KA72 , 4D006KB11 , 4D006KE12R , 4D006MA12 , 4D006MC03X , 4D006PA01 , 4D006PB08 , 4D006PB12 , 4D006PB14 , 4D006PB70 , 4D006PC80 , 4D025AA09 , 4D025AB11 , 4D025AB36 , 4D025BA07 , 4D025BA22 , 4D025BA27 , 4D025BB04 , 4D025DA05 , 5H050AA19 , 5H050BA17 , 5H050GA12 , 5H050HA10

引用特許：

審査官引用 (7件)

N-メチル-2-ピロリドンの精製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-249622 出願人：東燃株式会社
含水有機化合物の分離方法および分離装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-189652 出願人：三菱化学株式会社
N-置換ラクタムのアミン含有率を低下させるための方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-065327 出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト

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