特許

J-GLOBAL ID：201303091728638013

半導体製造装置のプロセス監視装置及び半導体製造装置のプロセス監方法並びに半導体製造装置

発明者： 梅原 康敏 ,  岡田 基 ,  岩永 修児
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人サクラ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-273207
公開番号（公開出願番号）：特開2013-214279
出願日： 2012年12月14日
公開日（公表日）： 2013年10月17日
要約：

【課題】従来に比べて容易かつ確実に半導体製造装置のプロセスを監視することのできる半導体製造装置のプロセス監視装置及び半導体製造装置のプロセス監方法並びに半導体製造装置を提供する。【解決手段】被処理基板を処理する半導体製造装置のプロセスの状態を監視する半導体製造装置の監視装置であって、正常な前記処理の状態を示す正常時動画データを記憶する記憶手段と、監視対象の前記処理の状態を撮像して動画データを取得する撮像手段と、前記撮像手段によって取得された動画データと、前記正常時動画データのフレーム毎に特徴量を抽出し、抽出した特徴量に基づいて異常度を算出する異常度算出手段と、前記異常度算出手段によって算出された異常度を、前記動画データのフレームの位置と関連付けて表示する表示手段と、を具備する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理基板を処理する半導体製造装置のプロセスの状態を監視する半導体製造装置の監視装置であって、 正常な前記処理の状態を示す正常時動画データを記憶する記憶手段と、 監視対象の前記処理の状態を撮像して動画データを取得する撮像手段と、 前記撮像手段によって取得された動画データと、前記正常時動画データのフレーム毎に特徴量を抽出し、抽出した特徴量に基づいて異常度を算出する異常度算出手段と、 前記異常度算出手段によって算出された異常度を、前記動画データのフレームの位置と関連付けて表示する表示手段と、 を具備することを特徴とする半導体製造装置の監視装置。

IPC (2件)：

G05B 23/02 ,  H01L 21/02

FI (2件)：

G05B23/02 301T ,  H01L21/02 Z

Fターム (6件)：

5H223AA01 ,  5H223AA05 ,  5H223AA15 ,  5H223DD03 ,  5H223EE17 ,  5H223FF03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 半導体製品の製造工程における処理評価方法および装置ならびに半導体製品製造システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-278365   出願人：富士通株式会社
• 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-160231   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (2件)

• 半導体製品の製造工程における処理評価方法および装置ならびに半導体製品製造システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-278365   出願人：富士通株式会社
• 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-160231   出願人：東京エレクトロン株式会社