特許

J-GLOBAL ID：201303091828728001

平面光波回路素子の製造方法

発明者： 安田 正隆 ,  川島 洋志
出願人/特許権者： 古河電気工業株式会社
代理人 (2件)： 酒井 宏明 ,  田代 至男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-180888
公開番号（公開出願番号）：特開2013-044805
出願日： 2011年08月22日
公開日（公表日）： 2013年03月04日
要約：

【課題】平面光波回路素子を高精度で製造できる方法を提供する。【解決手段】第1コア部を有する第1導波路回路部と、前記第1導波路回路部の第1コア部よりも最大厚さが厚い第2コア部を有する第2導波路回路部とを備えた平面光波回路素子の製造方法であって、下部クラッド層上に、前記第1コア部の厚さに対応する厚さを有する第1コア層と前記第2コア部の最大厚さに対応する厚さを有する第2コア層とを形成するコア層形成工程と、前記第1コア層を少なくとも該第1コア層の厚さだけ前記第1コア部のパターンにエッチングするとともに、前記第2コア層を少なくとも前記第1コア層の厚さだけ前記第2コア部のパターンにエッチングする第1エッチング工程と、前記第2コア層の残りの厚さの部分を選択的に前記第2コア部のパターンにエッチングする第2エッチング工程と、を含む。【選択図】図4-1

請求項（抜粋）：

第1コア部を有する第1導波路回路部と、前記第1導波路回路部の第1コア部よりも最大厚さが厚い第2コア部を有する第2導波路回路部とを備えた平面光波回路素子の製造方法であって、 下部クラッド層上に、前記第1コア部の厚さに対応する厚さを有する第1コア層と前記第2コア部の最大厚さに対応する厚さを有する第2コア層とを形成するコア層形成工程と、 前記第1コア層を少なくとも該第1コア層の厚さだけ前記第1コア部のパターンにエッチングするとともに、前記第2コア層を少なくとも前記第1コア層の厚さだけ前記第2コア部のパターンにエッチングする第1エッチング工程と、 前記第2コア層の残りの厚さの部分を選択的に前記第2コア部のパターンにエッチングする第2エッチング工程と、 を含むことを特徴とする平面光波回路素子の製造方法。

IPC (1件)：

G02B 6/13

FI (1件)：

G02B6/12 M

Fターム (12件)：

2H147AB17 ,  2H147BA01 ,  2H147BB02 ,  2H147BE01 ,  2H147BE04 ,  2H147BE13 ,  2H147BE15 ,  2H147BE23 ,  2H147EA35A ,  2H147FA05 ,  2H147FC03 ,  2H147GA01