特許
J-GLOBAL ID：201303092433970420

位相差フィルム及びその製造方法、偏光板、及び表示装置

発明者：
飯田 敏行

飯田 敏行 について

, 
清水 享

清水 享 について

, 
村上 奈穗

村上 奈穗 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (6件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-040499
公開番号（公開出願番号）：特開2013-174815
出願日： 2012年02月27日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
要約：
【課題】波長分散変化が少ない点で信頼性が高く、位相差変化の場所依存性に起因する表示ムラが少ない、逆波長分散特性を有する位相差フィルムの製法。【解決手段】下記式(1)及び(2):0.70<Re1[450]/Re1[550]<0.97・・・(1)1.5×10-3<Δn<6.0×10-3・・・(2)(式中、Re1[450]およびRe1[550]は、それぞれ、23°Cにおける波長450nmおよび550nmの光で測定した位相差フィルムの面内の位相差値であり、Δnは波長550nmの光で測定した位相差フィルムの面内の複屈折である)を満たす位相差フィルムの製造方法であって、連続的に長尺の高分子フィルムを搬送して供給する工程、高分子フィルムを搬送方向に対して横方向に延伸する延伸工程、延伸工程後に高分子フィルムを横方向に収縮させる第1収縮工程、及び第1収縮工程後に高分子フィルムを横方向に収縮させる第2収縮工程を有し、第1収縮工程における収縮温度T1(°C)と第2収縮工程における収縮温度T2(°C)とが、下記式(3):1<(T1-T2)≦10・・・(3)を満たす方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
位相差フィルムの製造方法であって、該位相差フィルムが下記式(1)及び(2): 0.70<Re1[450]/Re1[550]<0.97・・・(1) 1.5×10-3<Δn<6.0×10-3・・・(2) (式中、Re1[450]およびRe1[550]は、それぞれ、23°Cにおける波長450nmおよび550nmの光で測定した位相差フィルムの面内の位相差値であり、Δnは波長550nmの光で測定した位相差フィルムの面内の複屈折である) を満たし、前記製造方法が、次の工程: 連続的に長尺の高分子フィルムを搬送して供給する工程、 前記高分子フィルムを搬送方向に対して横方向に延伸する延伸工程、 前記延伸工程後に、前記高分子フィルムを前記横方向に収縮させる第1収縮工程、及び、 前記第1収縮工程後に、前記高分子フィルムを前記横方向に収縮させる第2収縮工程 を有し、 前記第1収縮工程における収縮温度T1(°C)と前記第2収縮工程における収縮温度T2(°C)とが、下記式(3): 1<(T1-T2)≦10・・・(3) を満たす、前記製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/30 ,  G02F 1/133 ,  B29C 55/08
FI (3件)：
G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  B29C55/08
Fターム (45件)：
2H149AA02 ,  2H149AB02 ,  2H149AB13 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB29 ,  2H149DB36 ,  2H149EA02 ,  2H149FA03Y ,  2H149FB05 ,  2H149FD04 ,  2H149FD05 ,  2H149FD30 ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FA94X ,  2H191FA94Z ,  2H191FA95X ,  2H191FA95Z ,  2H191FB02 ,  2H191FB22 ,  2H191FC08 ,  2H191FC09 ,  2H191FC17 ,  2H191FC32 ,  2H191FD12 ,  2H191GA22 ,  2H191GA23 ,  2H191LA21 ,  2H191PA42 ,  2H191PA44 ,  4F210AA12 ,  4F210AA19 ,  4F210AA28 ,  4F210AG01 ,  4F210AH73 ,  4F210AR06 ,  4F210AR12 ,  4F210QA02 ,  4F210QC03 ,  4F210QG01 ,  4F210QG18 ,  4F210QL16
引用特許：
審査官引用 (2件)

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