セシウム及びストロンチウム汚染除去洗浄剤の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石渡英房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-107140
公開番号（公開出願番号）：特開2013-234142
出願日： 2012年05月08日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：

【課題】除去効率がよく洗顔後のさっぱり感のよいセシウム及びストロンチウム汚染除去洗浄剤の製造方法を提供する。【解決手段】聖徳石の岩盤中に掘削した井戸から揚水した浸出水に対し濃縮作業を反復して行い、少なくともナトリウムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、銅イオン、アルミニウムイオン、鉄イオンからなる8種類の金属イオン類を微量含有するpH2.5〜3.0の範囲である聖徳石濃縮液を得て、液体石けんに対し該聖徳石浸出液を0.03〜0.10重量%の範囲で含有させるとともにジエチレントリアミン五酢酸またはフィチン酸を0.05〜0.20重量%含有させた。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

聖徳石の岩盤中に掘削した井戸から揚水した浸出水に対し自然環境に近い温度環境中で濃縮作業を反復して行い、少なくともナトリウムイオン0.30〜0.60mg、カリウムイオン0.05〜0.50mg、マグネシウムイオン0.05〜0.50mg、カルシウムイオン0.50〜1.10mg、亜鉛イオン0.02〜0.07mg、銅イオン0.01〜0.02mg、アルミニウムイオン7.00〜14.00mg、鉄イオン40.00〜65.00mgからなる8種類の金属イオン類を微量含有するとともにpH2.5〜3.0の範囲である聖徳石濃縮液を得て、液体石けんに対し、少なくとも、該聖徳石濃縮液を0.03〜0.10重量%の範囲で含有させるとともにジエチレントリアミン五酢酸またはフィチン酸を0.05〜0.20重量%含有させたセシウム及びストロンチウム汚染除去洗浄剤の製造方法。

IPC (5件)：

A61K 8/19 , A61Q 19/10 , A61K 8/44 , A61K 8/55 , A61Q 5/02

FI (5件)：

A61K8/19 , A61Q19/10 , A61K8/44 , A61K8/55 , A61Q5/02

Fターム (18件)：

4C083AA161 , 4C083AA162 , 4C083AB032 , 4C083AB211 , 4C083AB212 , 4C083AC122 , 4C083AC302 , 4C083AC392 , 4C083AC482 , 4C083AC521 , 4C083AC522 , 4C083AC642 , 4C083AC901 , 4C083AC902 , 4C083AD302 , 4C083AD532 , 4C083CC23 , 4C083DD27

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭48-092518
皮膚化粧料
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-250526 出願人：株式会社ヘルスガイド
聖徳石含有化粧料組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-209896 出願人：株式会社ヘルスガイド

全件表示

前のページに戻る