ポジ型感光性樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-025926
公開番号（公開出願番号）：特開2013-164432
出願日： 2012年02月09日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
要約：

【課題】本発明の課題は、低熱膨張性であり、シリコンウェハや銅などの基材との熱膨張係数の差が小さいために基板との反りが少なくて接着性が良く、優れた感光性と膜特性を有するポジ型感光性樹脂組成物を得ることを目的とする。【解決手段】(a)ポリイミド前駆体および(b)キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、(a)ポリイミド前駆体が少なくとも(a-1)テトラカルボン酸二無水物残基および(a-2)ジアミン残基を有し、(a-1)テトラカルボン酸二無水物残基が3,4,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)残基を含み、(a-2)ジアミン残基が4,4’-ジアミノベンズアニリド(DABA)残基および2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノビフェニル(TFMB)残基を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)ポリイミド前駆体および(b)キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、(a)ポリイミド前駆体が少なくとも(a-1)テトラカルボン酸二無水物残基および(a-2)ジアミン残基を有し、(a-1)テトラカルボン酸二無水物残基が3,4,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)残基を含み、(a-2)ジアミン残基が4,4’-ジアミノベンズアニリド(DABA)残基および2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノビフェニル(TFMB)残基を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/023 , G03F 7/004 , C08G 73/10

FI (3件)：

G03F7/023 , G03F7/004 503A , C08G73/10

Fターム (28件)：

2H125AF13P , 2H125AM76P , 2H125AM79P , 2H125AM92P , 2H125AN54P , 2H125AN57P , 2H125BA01P , 2H125CA11 , 2H125CB06 , 2H125CC03 , 2H125CC21 , 4J043PA19 , 4J043RA35 , 4J043SA06 , 4J043SA54 , 4J043SB01 , 4J043SB03 , 4J043TA22 , 4J043TB01 , 4J043TB03 , 4J043UA122 , 4J043UA131 , 4J043UB221 , 4J043UB401 , 4J043ZA35 , 4J043ZB11 , 4J043ZB47 , 4J043ZB60

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