特許
J-GLOBAL ID:201303093753408262

レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 野口 恭弘 ,  深海 明子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-103091
公開番号(公開出願番号):特開2013-230587
出願日: 2012年04月27日
公開日(公表日): 2013年11月14日
要約:
【課題】水性インキ及び溶剤インキの両方に良好な耐久性を有するフレキソ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたフレキソ印刷版原版及びその製造方法、それを用いたフレキソ印刷版の製版方法、並びに、それにより得られたフレキソ印刷版を提供すること【解決手段】(成分A)逐次重合で得られた連結部と特定の構造を有する連鎖重合開始剤残基を有する高分子開始剤、及び、(成分B)重合性化合物、を含有することを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたフレキソ印刷版原版及びその製造方法、それを用いたフレキソ印刷版の製版方法、並びに、それにより得られたフレキソ印刷版。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(成分A)逐次重合で得られた下記式I〜Vのいずれか1つで表される構造を有する高分子開始剤、及び、 (成分B)重合性化合物、を含有することを特徴とする レーザー彫刻用樹脂組成物。
IPC (1件):
B41N 1/12
FI (1件):
B41N1/12
Fターム (9件):
2H114AA01 ,  2H114AA23 ,  2H114BA10 ,  2H114DA03 ,  2H114DA48 ,  2H114DA52 ,  2H114DA54 ,  2H114EA02 ,  2H114EA06
引用特許:
出願人引用 (3件)

前のページに戻る