特許
J-GLOBAL ID：201303094307569887
フィルムの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
鈴木 史朗
, 志賀 正武
, 高橋 詔男
, 伏見 俊介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-030445
公開番号（公開出願番号）：特開2013-091858
出願日： 2013年02月19日
公開日（公表日）： 2013年05月16日
要約：
【課題】ガイドローラと基材とを接触させずに巻き取り可能な基材上に原子層堆積膜を連続的に形成する。【解決手段】第一前駆体ガスが導入される第一真空気室と、第二前駆体ガスが導入される第二真空気室と、第一前駆体及び第二前駆体を排出するために用いられるパージガスが導入される第三真空気室と、基材の幅方向の両端部を保持する保持部を有し、基材を、第一真空気室,第二真空気室,及び第三真空気室に搬送する搬送機構とを備え、搬送機構が、第一真空気室,第二真空気室,及び第三真空気室のいずれかの室内に、かつ自身の一部が他の室内に位置しないように配置された巻き取り成膜装置を用いて、基材を巻き取りながら基材上に成膜を行う巻き取り成膜方法は、搬送機構により、基材を第一真空気室及び第二真空気室を交互に複数回通過させて、基材の表面に原子層を堆積させて原子層堆積膜を形成することを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
第一前駆体ガスが導入される第一真空気室と、第二前駆体ガスが導入される第二真空気室と、前記第一前駆体及び前記第二前駆体を排出するために用いられるパージガスが導入される第三真空気室と、基材の幅方向の両端部を保持する保持部を有し、前記基材を、前記第一真空気室,前記第二真空気室,及び前記第三真空気室に搬送する搬送機構とを備え、前記搬送機構が、前記第一真空気室,前記第二真空気室,及び前記第三真空気室のいずれかの室内に、かつ自身の一部が他の室内に位置しないように配置された巻き取り成膜装置を用いて、前記基材を巻き取りながら前記基材上に成膜を行う巻き取り成膜方法であって、
前記搬送機構により、前記基材を前記第一真空気室及び前記第二真空気室を交互に複数回通過させて、前記基材の表面に原子層を堆積させて原子層堆積膜を形成する
ことを特徴とする巻き取り成膜方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030BA43
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030EA03
, 4K030EA06
, 4K030FA10
, 4K030GA01
, 4K030HA01
, 4K030KA06
, 4K030KA08
, 4K030LA24
