特許

J-GLOBAL ID：201303094910105968

金属の選択的エッチング方法

発明者： コルドニエ クリストファー ,  鍋島 三弘 ,  熊谷 真吾 ,  高橋 直貴
出願人/特許権者： 株式会社JCU
代理人 (1件)： 特許業務法人 小野国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-057213
公開番号（公開出願番号）：特開2013-189686
出願日： 2012年03月14日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
要約：

【課題】実用的な速度で、かつ、下地基材よりも優先的にチタンだけでなく、他の金属も選択的にエッチングする方法を提供する。【解決手段】下地基材に設けられたチタンおよびニオブから選ばれる金属、前記金属の酸化物またはこれらの合金の層を、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンおよび2,2',2'',2'''エチレンジニトリロテトラエタノールから選ばれるエタノールアミン類の少なくとも1種を含有し、アルカリ性であるエッチング液に接触させることを特徴とするチタンおよびニオブから選ばれる金属、前記金属の酸化物またはこれらの合金を選択的にエッチングする方法。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

下地基材に設けられたチタンおよびニオブから選ばれる金属、前記金属の酸化物またはこれらの合金の層を、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンおよび2,2',2'',2'''エチレンジニトリロテトラエタノールから選ばれるエタノールアミン類の少なくとも1種を含有し、アルカリ性であるエッチング液に接触させることを特徴とするチタンおよびニオブから選ばれる金属、前記金属の酸化物またはこれらの合金を選択的にエッチングする方法。

IPC (1件)：

C23F 1/40

FI (1件)：

C23F1/40

Fターム (5件)：

4K057WB01 ,  4K057WE21 ,  4K057WG02 ,  4K057WG03 ,  4K057WG06