特許

J-GLOBAL ID：201303095720292342

真空処理システム

発明者： 宮下 哲也 ,  多田 憲倫
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-281680
公開番号（公開出願番号）：特開2013-136839
出願日： 2012年12月25日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：

【課題】被処理基板の搬入・搬出が行われ、内部が真空状態に保持可能な室への汚染成分の流入を有効に抑制することができる真空処理システムを提供する。【解決手段】被処理基板を搬入・搬出する搬入出口31を有し、搬入出口31を開閉可能なゲートバルブを介して被処理基板の搬入・搬出が行われ、内部が真空状態に保持可能な室11と、内部が真空状態に保持可能な室11の搬入出口31近傍に設けられ、ゲートバルブを開いた状態で、搬入出口31へパージガスを吐出するパージガス吐出部材51とを具備し、パージガス吐出部材51は、搬入出口31の幅方向に沿って延在し、パージガスを帯状に吐出する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

被処理基板を搬入・搬出する搬入出口を有し、前記搬入出口を開閉可能なゲートバルブを介して前記被処理基板の搬入・搬出が行われ、内部が真空状態に保持可能な室と、 前記内部が真空状態に保持可能な室の前記搬入出口近傍に設けられ、前記ゲートバルブを開いた状態で、前記搬入出口へパージガスを吐出するパージガス吐出部材とを具備し、 前記パージガス吐出部材は、前記搬入出口の幅方向に沿って延在し、パージガスを帯状に吐出することを特徴とする真空処理システム。

IPC (2件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/677

FI (2件)：

C23C16/44 F ,  H01L21/68 A

Fターム (40件)：

4K030BA18 ,  4K030BA38 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA01 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030GA12 ,  4K030KA02 ,  4K030LA15 ,  5F045DQ17 ,  5F045EE14 ,  5F045EN04 ,  5F131AA02 ,  5F131BA04 ,  5F131BB04 ,  5F131CA12 ,  5F131DA32 ,  5F131DA33 ,  5F131DA36 ,  5F131DA42 ,  5F131DB02 ,  5F131DB52 ,  5F131DB58 ,  5F131DB62 ,  5F131DB72 ,  5F131DB76 ,  5F131DD03 ,  5F131DD33 ,  5F131DD53 ,  5F131EA03 ,  5F131EB72 ,  5F131EB81 ,  5F131GA13 ,  5F131HA12 ,  5F131HA28 ,  5F131JA07 ,  5F131JA24 ,  5F131JA25 ,  5F131JA32