堆積膜形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：桂田健志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-009644
公開番号（公開出願番号）：特開2013-147709
出願日： 2012年01月20日
公開日（公表日）： 2013年08月01日
要約：

【課題】クリーニングガスの利用効率を向上しつつ、堆積膜形成装置へのダメージを抑制して、副生物が付着するのを抑制する堆積膜形成方法を提供する。【解決手段】減圧可能な反応容器1100の中に基体1106を設置し、原料ガスを供給しながらプラズマを生成し、基体上に堆積膜を形成することと並行して、反応容器の中を排気する排気手段1200と反応容器とを連結する排気配管1203内へ不活性ガスによって希釈したクリーニングガスを供給して排気配管内に副生成物が付着するのを抑制する堆積膜形成方法であって、少なくとも原料ガスの供給量が異なる第1工程と第2工程を有し、第1工程と第2工程のうち原料ガスの供給量が少ない工程をA工程、供給量が多い工程をB工程とした時、クリーニングガスの供給量をA工程よりB工程で多くし、かつクリーニングガスと不活性ガスの総流量に対するクリーニングガスの比率をA工程よりB工程で少なくする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

減圧可能な反応容器の中に基体を設置し、前記反応容器の中に原料ガスを供給しながら電力を供給して前記原料ガスのプラズマを生成し、前記基体上に堆積膜を形成することと並行して、前記反応容器の中を排気する排気手段と前記反応容器とを連結する排気配管内へ不活性ガスによって希釈したクリーニングガスを供給して前記排気配管内に副生成物が付着するのを抑制する堆積膜形成方法であって、少なくとも前記原料ガスの供給量が異なる第1工程と第2工程を有し、前記第1工程と前記第2工程のうち前記原料ガスの供給量が少ない工程をA工程、供給量が多い工程をB工程としたとき、前記クリーニングガスの供給量がA工程よりB工程で多く、かつ、前記クリーニングガスと前記不活性ガスの総流量に対する前記クリーニングガスの比率がA工程よりB工程で少ないことを特徴とする堆積膜形成方法。

IPC (5件)：

C23C 16/44 , C23C 16/24 , H01L 21/205 , H01L 21/306 , G03G 5/08

FI (5件)：

C23C16/44 J , C23C16/24 , H01L21/205 , H01L21/302 101H , G03G5/08 360

Fターム (38件)：

2H068EA24 , 4K030AA04 , 4K030AA06 , 4K030AA07 , 4K030AA17 , 4K030BA30 , 4K030CA02 , 4K030CA16 , 4K030EA12 , 4K030FA03 , 4K030GA07 , 4K030JA05 , 4K030KA04 , 4K030LA17 , 5F004AA15 , 5F004BA03 , 5F004BB28 , 5F004CB15 , 5F004DA00 , 5F004DA23 , 5F004DA30 , 5F004DB01 , 5F004DB30 , 5F045AA08 , 5F045AB04 , 5F045AC01 , 5F045AC19 , 5F045AD06 , 5F045BB08 , 5F045CA13 , 5F045CA16 , 5F045DP25 , 5F045EB06 , 5F045EE13 , 5F045EE14 , 5F045EG01 , 5F045EG07 , 5F045EG08

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