モデルベースのスキャナ調整方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-204119
公開番号（公開出願番号）：特開2013-012773
出願日： 2012年09月18日
公開日（公表日）： 2013年01月17日
要約：

【課題】モデルベースによる複数のリソグラフィシステムの調整および性能の最適化を行うシステムおよび方法を提供する。【解決手段】ターゲットスキャナのモデルは、一組の調整可能パラメータを基準にしてターゲットスキャナの感度を画定して維持される。差分モデルは基準に対するターゲットスキャナの偏差を表す。ターゲットスキャナは、基準スキャナおよび差分モデルの設定に基づいて調整され得る。関連スキャナのファミリーの性能は、基準スキャナの性能に対して特徴付けられ得る。差分モデルは、結像挙動における差をシミュレートするために使用されてよいパラメトリックオフセットおよび他の差などの情報を含み得る。【選択図】図11

請求項（抜粋）：

対応するモデルを用いてリソグラフィ装置を調整する方法であって、前記方法は、前記リソグラフィ装置上の一組の調整可能パラメータにおける変化を受ける、前記リソグラフィ装置を用いてウェーハの所定層に対するリソグラフィプロセスの結像挙動を特徴付けるリソグラフィプロセスモデルを維持することと、設計レイアウトおよび前記リソグラフィプロセスモデルを用いて前記所定層にシミュレートされたウェーハ輪郭を生成することと、基準に対する前記シミュレートされたウェーハ輪郭における相違(discrepancy)を識別することと、コスト関数によって前記相違を定量化することと、前記コスト関数を最小化し、かつ前記基準に対する前記シミュレートされたウェーハ輪郭の所望の収束度を得るために前記生成および識別ステップの反復を行うことであって、前記リソグラフィ装置の少なくとも1つの調整可能パラメータは、各反復を行う前に調節される、こととを含む、方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 516Z , H01L21/30 514E

Fターム (4件)：

5F146AA17 , 5F146BA03 , 5F146DA11 , 5F146DA12

引用特許：

審査官引用 (1件)

特許第5225462号

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