特許

J-GLOBAL ID：201303096426513833

積層体の製造方法

発明者： 松下 淳 ,  御嶽 達弘
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-025379
公開番号（公開出願番号）：特開2013-162091
出願日： 2012年02月08日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
要約：

【課題】基板に対して支持体を仮止めするための積層体を好適に製造するための技術を提供する。【解決手段】基板、支持体および分離層を備えた積層体の製造方法であって、反応室内に搬入された支持体および反応室内の温度をプラズマ処理により上昇させる予備処理工程と、予備処理工程の後、分離層となる原料ガスを反応室内に供給し、支持体上に分離層を形成する分離層形成工程と、を包含している、製造方法。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板、該基板を支持する光透過性の支持体、および、該基板と該支持体との間に設けられ、支持体を介して照射される光を吸収することによって変質するようになっている分離層を備えた積層体の製造方法であって、 反応室内に搬入された該支持体および該反応室内の温度をプラズマ処理により上昇させる予備処理工程と、 該予備処理工程の後、該分離層となる原料ガスを該反応室内に供給し、該支持体上に該分離層を形成する分離層形成工程と、 を包含していることを特徴とする積層体の製造方法。

IPC (3件)：

H01L 21/02 ,  H01L 21/304 ,  B32B 37/24

FI (4件)：

H01L21/02 C ,  H01L21/304 622J ,  H01L21/02 B ,  B32B31/06

Fターム (23件)：

4F100AG00 ,  4F100AS00B ,  4F100AS00C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100EJ01C ,  4F100EJ422 ,  4F100EJ852 ,  4F100GB41 ,  4F100JN01B ,  5F057AA14 ,  5F057AA44 ,  5F057AA49 ,  5F057BA11 ,  5F057CA14 ,  5F057DA11 ,  5F057DA38 ,  5F057DA40 ,  5F057FA15 ,  5F057FA22 ,  5F057FA30 ,  5F057FA48