特許

J-GLOBAL ID：201303097739471445

製錬ダストの分離装置、および製錬ダストの分離方法

発明者： 佐藤 晋哉
出願人/特許権者： パンパシフィック・カッパー株式会社
代理人 (2件)： 片山 修平 ,  八田 俊之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-081192
公開番号（公開出願番号）：特開2013-209717
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
要約：

【課題】製錬ダストからの銅分の回収率を向上させることができる、製錬ダストの分離装置および製錬ダストの分離方法を提供する。【解決手段】製錬ダストの分離装置は、製錬ダストを浸出液に導入することによって得られるスラリーが導入される第1分離槽41と、前記第1分離槽内のスラリーに上昇流を生じさせる第1上昇流発生装置43と、を備え、沈降速度の高い粒子と沈降速度の低い粒子とに分離する第1分離装置40と、前記第1分離槽の上部に滞留するスラリーを第2分離槽51に導入する導入経路46と、前記第2分離槽と、前記第2分離槽内のスラリーに上昇流を生じさせる第2上昇流発生装置53と、を備え、沈降速度の高い粒子と沈降速度の低い粒子とに分離する第2分離装置50と、を備える。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

製錬ダストを浸出液に導入することによって得られるスラリーが導入される第1分離槽と、前記第1分離槽内のスラリーに上昇流を生じさせる第1上昇流発生装置と、を備え、沈降速度の高い粒子と沈降速度の低い粒子とに分離する第1分離装置と、 前記第1分離槽の上部に滞留するスラリーを第2分離槽に導入する導入経路と、 前記第2分離槽と、前記第2分離槽内のスラリーに上昇流を生じさせる第2上昇流発生装置と、を備え、沈降速度の高い粒子と沈降速度の低い粒子とに分離する第2分離装置と、を備えることを特徴とする製錬ダストの分離装置。

IPC (5件)：

C22B 7/02 ,  C22B 15/06 ,  C22B 1/00 ,  B03B 5/66 ,  B03B 9/04

FI (5件)：

C22B7/02 B ,  C22B15/06 ,  C22B1/00 601 ,  B03B5/66 ,  B03B9/04

Fターム (14件)：

4D071AA64 ,  4D071AB04 ,  4D071AB43 ,  4D071CA01 ,  4D071CA05 ,  4D071DA13 ,  4K001AA05 ,  4K001AA09 ,  4K001AA20 ,  4K001BA14 ,  4K001CA03 ,  4K001CA05 ,  4K001DA05 ,  4K001GB09