特許

J-GLOBAL ID：201303098113349962

プラズマを確実に点弧させるスパッタリングチャンバシールド

発明者： インガン スー ,  ネルソン エイ イェー ,  ジョン シー フォースター ,  ケニー キン タイ ンガン ,  リサ エル ヤング
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (10件)： 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  竹内 英人 ,  今城 俊夫 ,  小川 信夫 ,  村社 厚夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-341151
公開番号（公開出願番号）：特開2001-181835
特許番号：特許第4739502号
出願日： 2000年10月03日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 平らな面及びベベル外縁を有するターゲットを含むスパッタ反応器内に使用される金属シールドであって、上記シールドは、上記ベベル外縁に沿って且つそれとは離間して伸びてプラズマ暗空間を形成する傾斜部分と、上記ターゲットから遠去かるように上記平らな面に対して垂直な方向に伸び、曲がりによって上記傾斜部分に結合されている直線部分とを含み、上記曲がりは、上記平らな面から少なくとも9mmに位置しており、上記平らな面から40mmより離れて位置していないことを特徴とするシールド。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ( 200 6.01) ,  H01L 21/285 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C23C 14/34 C ,  H01L 21/285 S

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ウエハ加熱器用成膜防護具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-012026   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 特開平4-350929
  
• PVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-157853   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• スパッタリング装置及びスパッタリング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-327230   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

審査官引用 (4件)

• ウエハ加熱器用成膜防護具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-012026   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 特開平4-350929
  
• PVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-157853   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• スパッタリング装置及びスパッタリング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-327230   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド