特許
J-GLOBAL ID:201303099910018730
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-143152
公開番号(公開出願番号):特開2013-041256
出願日: 2012年06月26日
公開日(公表日): 2013年02月28日
要約:
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)で、且つ、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、酸発生剤、式(II)で表される化合物を含むレジスト組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される構造単位を有する樹脂、
アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、
酸発生剤及び
式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。
IPC (4件):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
, C08F 20/28
FI (4件):
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
, C08F20/28
Fターム (48件):
2H125AE13P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF26P
, 2H125AF38P
, 2H125AF41P
, 2H125AF45P
, 2H125AF70P
, 2H125AH04
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AM22P
, 2H125AM99P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN65P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4J100AL08P
, 4J100BA10P
, 4J100BA15P
, 4J100BA20P
, 4J100BB12P
, 4J100BC02P
, 4J100BC03P
, 4J100BC04P
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100CA01
, 4J100CA03
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
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