池之上卓己

イケノウエタクミ | Ikenoue Takumi

所属機関・部署：
職名：助教

研究分野 (1件)：電気電子材料工学

競争的資金等の研究課題 (18件)：

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論文 (36件)：

Hisato Nishii, Shintarou Iida, Akira Yamasaki, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Toshiya Doi, Tetsuji Hirato. Fabrication of epitaxial V2O3 thin films on Al2O3 substrates via mist chemical vapor deposition. Journal of Crystal Growth. 2024. 626. 127484-127484
Shota Higashino, Yoshikazu Takeuchi, Masao Miyake, Takuma Sakai, Takumi Ikenoue, Masakazu Tane, Tetsuji Hirato. Toward Tungsten Electrodeposition at Moderate Temperatures Below 100 °C Using Chloroaluminate Ionic Liquids. Journal of The Electrochemical Society. 2023. 170. 5. 052501-052501
Masao Miyake, Yuya Tanaka, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato. Fabrication of micron-sized three-dimensional porous Al from an Al-Zn monotectoid alloy via selective etching and Al passivation. Journal of Materials Science. 2023. 58. 19. 8169-8177
Masao Miyake, Takashi Kita, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato. Aluminum Barrel Plating on Steel Bolts Using Chloroaluminate Ionic Liquids. Journal of The Electrochemical Society. 2022. 169. 7. 072509-072509
Yuki Haruta, Mioko Kawakami, Yuui Nakano, Soumya Kundu, Shinji Wada, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato, Makhsud I. Saidaminov. Scalable Fabrication of Metal Halide Perovskites for Direct X-ray Flat-Panel Detectors: A Perspective. Chemistry of Materials. 2022

MISC (124件)：

和田愼史, 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司. ミストデポジション法を用いたCs₂AgBiBr₆膜の作製. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2020. 81st
滝野天琴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司. ミスト CVD 法による MgO 基板上への NiO 薄膜のエピタキシャル成長. 日本鉄鋼協会・日本金属学会関西支部鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会令和元年度合同講演会. 2019
市田智士, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司. 溶液成長法による CsPbBr3 膜成長における基板温度の影響. 日本鉄鋼協会・日本金属学会関西支部鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会令和元年度合同講演会. 2019
Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato. Fabrication of Cesium Lead Bromide Thick Films with Closely-Packed Columnar Crystals and High Carrier Mobility by Using a Mist Deposition Method. 2019 Materials Research Symposium Fall Meeting. 2019
Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato. Epitaxial Growth and Band-Gap Control of Ni1-xMgxO Thin Film by Using Mist CVD Method. 2019 Materials Research Symposium Fall Meeting. 2019

特許 (1件)：

書籍 (1件)：

講演・口頭発表等 (5件)：

Growth and characterization of p-type oxide semiconductor thin films by using mist CVD method
(20th International Union of Materials Research Societies-International Conference in Asia 2019)
Hop Step Jump! 高専の先に広がる未来
(文部科学省情報ひろば特別展示・イベント 2018)
液摘(ミスト)を用いた成膜技術とデバイス応用
(第4回製鋼部会産学交流会 2017)
ミストCVD法を用いた光吸収層用酸化物・硫化物の成長
(文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業微細加工プラットフォーム第2回広島大学・山口大学・香川大学・FAIS 合同シンポジウム 2016)
ミスト CVD 法による銅系材料の成膜
(ナノテク研シンポジウム2015 2015)

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池之上 卓己