研究者
J-GLOBAL ID:201401002412455348
更新日: 2014年03月14日
土橋 剛
ドバシ ツヨシ | DOBASHI Tsuyoshi
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所属機関・部署:
旭川工業高等専門学校 電気情報工学科
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職名:
教授
研究分野 (1件):
電気電子材料工学
研究キーワード (3件):
薄膜キャパシタ
, 陽極酸化
, 積層誘電体薄膜
MISC (9件):
土橋剛. バルブ金属(Hf,Zr,Nb,Ta)2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象の検討. 電子情報通信学会論文誌 C. 2009. J92-C. 6. 225-228
土橋剛, 中西瞳. バルブ金属(Hf,Zr,Nb)2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象. 電子情報通信学会論文誌 C. 2007. J90-C. 3. 291-293
土橋剛, 鈴木晋之介, 佐々木克孝. Nb/Hf 2層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性. 電子情報通信学会論文誌 C. 2003. J86-C. 1. 89-91
土橋剛, 梅沢利二, 佐々木克孝, 野矢厚. 周期的Al/Hf積層膜を陽極酸化した薄膜キャパシタの損失特性. 電子情報通信学会論文誌 C-2. 1996. 79. 5. 197-199
土橋剛, 梅沢利二, 佐々木克孝, 野矢厚. Al/Ta/Hf多層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と酸化過程. 電子情報通信学会論文誌 C-2. 1994. 77. 10. 413-418
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学歴 (1件):
- 1977 北見工業大学 電子工学科
学位 (1件):
博士(工学) (北海道大学)
経歴 (3件):
2001 - 現在 旭川工業高等専門学校 電気情報工学科 教授
1989 - 2000 旭川工業高等専門学校 電気工学科 助教授
1977 - 1988 旭川工業高等専門学校 電気工学科 助手
所属学会 (1件):
電子情報通信学会
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