研究者

J-GLOBAL ID：201401002412455348 更新日: 2014年03月14日

土橋剛

ドバシツヨシ | DOBASHI Tsuyoshi

所属機関・部署：
職名：教授

研究分野 (1件)：電気電子材料工学

研究キーワード (3件)：薄膜キャパシタ , 陽極酸化 , 積層誘電体薄膜

MISC (9件)：

土橋剛. バルブ金属(Hf,Zr,Nb,Ta)2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象の検討. 電子情報通信学会論文誌 C. 2009. J92-C. 6. 225-228
土橋剛, 中西瞳. バルブ金属(Hf,Zr,Nb)2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象. 電子情報通信学会論文誌 C. 2007. J90-C. 3. 291-293
土橋剛, 鈴木晋之介, 佐々木克孝. Nb/Hf 2層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性. 電子情報通信学会論文誌 C. 2003. J86-C. 1. 89-91
土橋剛, 梅沢利二, 佐々木克孝, 野矢厚. 周期的Al/Hf積層膜を陽極酸化した薄膜キャパシタの損失特性. 電子情報通信学会論文誌 C-2. 1996. 79. 5. 197-199
土橋剛, 梅沢利二, 佐々木克孝, 野矢厚. Al/Ta/Hf多層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と酸化過程. 電子情報通信学会論文誌 C-2. 1994. 77. 10. 413-418

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学歴 (1件)：

- 1977 北見工業大学電子工学科

学位 (1件)：

博士(工学) (北海道大学)

経歴 (3件)：

2001 - 現在旭川工業高等専門学校電気情報工学科教授
1989 - 2000 旭川工業高等専門学校電気工学科助教授
1977 - 1988 旭川工業高等専門学校電気工学科助手

所属学会 (1件)：

電子情報通信学会

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