江利口浩二

エリグチコウジ | Eriguchi Koji

所属機関・部署：
職名：教授
ホームページURL (1件)： http://www.propulsion.kuaero.kyoto-u.ac.jp/

研究分野 (5件)：ナノ材料科学 , 電子デバイス、電子機器 , 材料加工、組織制御 , 複合材料、界面 , プラズマ科学

研究キーワード (30件)：プラズマプロセス , 誘電率 , 欠陥層 , 電気容量 , 分子動力学 , プラズマ , 欠陥 , 表面・界面 , ナノ材料 , レーザー , 変調反射率分光 , 誘電関数 , トランジスタ , 極低消費電力 , 界面層 , 電子 , 表面界面改質 , シリコン , プラズマ化学 , プラズマ加工 , 表面・界面物性 , 超微細加工形状 , 半導体超微細化 , 反応粒子輸送 , プラズマエッチング , 表面ラフネス , マイクロプラズマ , 亜音速・超音速流れ場 , エッチング , 高温反応場

競争的資金等の研究課題 (13件)：

2021 - 2023 電子捕獲準位の誘電損失機構を活用したナノ薄膜の欠陥回復と信頼性向上に関する研究
2020 - 2023 パラメータ分離型アーク放電による窒化ホウ素膜のsp結合制御と機能設計の研究
2017 - 2019 ゆらぎの確率過程を用いたマイクロ流体デバイス内の現象予測と信頼性評価技術の開発
2016 - 2019 確率過程モデルにもとづくナノ構造体における欠陥制御型プロセス設計手法の研究
2015 - 2018 イオンエネルギー確率分布関数制御型プラズマによる窒化ホウ素薄膜の組成制御の研究

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論文 (155件)：

Keiichiro Urabe, Minami Toyoda, Yoshinori Matsuoka, Koji Eriguchi. Investigation of small-fraction molecular impurities in high-pressure helium plasmas using optical plasma diagnostic methods. Plasma Sources Science and Technology. 2024. 33. 2. 025011-025011
Junki Morozumi, Takahiro Goya, Tomohiro Kuyama, Koji Eriguchi, Keiichiro Urabe. In situ electrical monitoring of SiO₂/Si structures in low-temperature plasma using impedance spectroscopy. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. SI. SI1010-SI1010
Yoshihiro Sato, Satoshi Shibata, Kazuko Nishimura, Masayuki Yamasaki, Masashi Murakami, Keiichiro Urabe, Koji Eriguchi. Predicting the effects of plasma-induced damage on p-n junction leakage and its application in the characterization of defect distribution. Journal of Vacuum Science & Technology B. 2022. 40. 6. 062209-062209
Seiya Kito, Keiichiro Urabe, Koji Eriguchi. Multi-harmonic analysis in a floating harmonic probe method for diagnostics of electron energy and ion density in low-temperature plasmas. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. 10. 106002-106002
T. Matsuda, T. Hamano, Y. Asamoto, M. Noma, M. Yamashita, S. Hasegawa, K. Urabe, K. Eriguchi. Ion irradiation-induced sputtering and surface modification of BN films prepared by a reactive plasma-assisted coating technique. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. SI. SI1014-SI1014

MISC (151件)：

松田崇行, 濱野誉, 朝本雄也, 野間正男, 山下満, 長谷川繁彦, 占部継一郎, 江利口浩二. イオンフラックス制御型反応性プラズマ支援成膜法による窒化ホウ素膜構造制御に関する研究. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
朝本雄也, 松田崇行, 濱野誉, 野間正男, 長谷川繁彦, 山下満, 占部継一郎, 江利口浩二. 熱電子供給型真空アーク放電の放電電流決定機構に基づくプロセス制御. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
Tatsuru Shirafuji, Keizo Kinoshita, Hiroshi Akatsuka, Koji Eriguchi, Takashi Ichikawa, Takanori Ichiki, Tatsuo Ishijima, Kenji Ishikawa, Kazuhiro Karahashi, Kazuaki Kurihara, et al. Dry Process FOREWORD. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2020. 59
占部継一郎, 住平透, 野間正男, 山下満, 長谷川繁彦, 江利口浩二. 反応性プラズマ支援成膜法により堆積した窒化ホウ素薄膜の機械的特性と耐プラズマ性に関する研究. 日本航空宇宙学会中部・関西支部合同秋期大会講演論文集(CD-ROM). 2019. 56th
江利口浩二, 占部継一郎. 先端CMOS/メモリデバイスにおけるプラズマ加工技術の現状と課題. 応用物理. 2018. 87. 12. 895-901

書籍 (9件)：

最新実用真空技術総覧
(株)エヌ・ティー・エス, 2019 2019
先端CMOS/メモリデバイスにおけるプラズマ加工技術の現状と課題
応用物理第87巻第12号 2018
真空科学ハンドブック
株式会社コロナ社(日本真空学会編) 2018
プラズマプロセス技術
森北出版株式会社 2017
プラズマプロセスの新しい応用
ケミカルエンジニヤリング 2013

講演・口頭発表等 (29件)：

Plasma-Induced Damage: Modeling and Characterization
(2022 IEEE International Integrated Reliability Workshop (IIRW) 2022)
Plasma-induced damage
(2021 IEEE International Integrated Reliability Workshop (IIRW), Reliability Experts Forum 2021)
Comprehensive Characterization of Surface Modification Mechanisms in Boron Nitride Films Prepared by a Reactive Plasma-assisted Coating Technique
(The 47th ICMCTF 2021)
Evaluation methodology for assessment of dielectric degradation and breakdown dynamics using time-dependent impedance spectroscopy (TDIS)
(IEEE Int. Reliability Physics Symp (IRPS) 2021)
Plasma-induced Damage-Modeling and Characterizations
(International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM 2020) 2020)

経歴 (3件)：

2016/07 - 現在京都大学工学(系)研究科(研究院) 教授
2005/07 - 2016/06 Kyoto University 工学(系)研究科(研究院) 准教授
1991/04 - 2005/07 パナソニック

委員歴 (26件)：

2007 - 現在 IEEE IRPS-Process Integration subcommittee Chair (2007-2008), Management committee (2011-), Technical Program Chair (2022), General Chair (2024)
2004 - 現在 IEEE ICICDT-Conference Chair (2009), General Chair (2010), Tutorial Chair (2014, 2015), Secretary (2016-2018), Tutorial Chair (2021)
2021/03 - 2023/03 応用物理学会機関誌編集委員
2019 - 2020 日本航空宇宙学会関西支部幹事
2017/04/01 - 2019/03/31 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会幹事(会計)

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受賞 (30件)：

2022/10 - IEEE EDS Kansai Chapter MFSK IEEE EDS Kansai Chapter MFSK Award
2022/03 - IEEE IRPS 2021 Technical Program AWARDS: BEST STUDENT PAPER
2021/11 - 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021) DPS 2019 Young Researcher Award
2021/11 - 42nd International Symposium on Dry Process (DPS2021) DPS 2019 Young Researcher Award
2021/09 - IEEE EDS Kansai Chapter IEEE EDS Kansai Chapter of the Year Award

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所属学会 (5件)：

日本航空宇宙学会 , 日本真空学会 , 応用物理学会:シリコンテクノロジー分科会,プラズマエレクトロニクス分科会 , AVS (American Vacuum Society) , IEEE (The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc.): Electron Device Society, Reliability Society

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