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J-GLOBAL ID：201402202623288190   整理番号：14A0049873

PdNi合金薄膜を形成したSQUIDの磁場応答

著者 (4件)： 谷口壮耶 (名大 院) ,  伊藤大 (名大 院) ,  赤池宏之 (名大 院) ,  藤巻朗 (名大 院)
資料名： 低温工学・超電導学会講演概要集  (低温工学・超電導学会研究発表会講演概要集)
巻： 88th  ページ： 57  発行年： 2013年12月04日 
JST資料番号： G0564B  ISSN： 0919-5998  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： SFQ論理回路を用いたスーパーコンピューターの実現に当たって新たな仕組みを持つ高集積可能なメモリの実現が不可欠であるまたSFQ論理回路の大規模化によって回路を流れる電流量が増えており磁束を逃がす高効率なモートや磁気結合を用いたカレントリサイクル技術の確立が必要そこでこれらの課題に対処するため磁気異方性や高透磁率といった特徴を持つ磁性体に着目した今回はデバイス上に種々のPdNi合金薄膜を形成し磁気特性を変化させ磁性体薄膜が超伝導デバイスに与える影響の変化を調査した。(著者抄録)

シソーラス用語： *パラジウム合金 ,  ニッケル含有合金 ,  金属薄膜 ,  *SQUID ,  回路 ,  スーパコンピュータ ,  ニオブ ,  酸化アルミニウム ,  磁性薄膜 ,  スパッタ蒸着 ,  *強磁性 ,  常磁性 ,  磁場効果 ,  磁束量子
準シソーラス用語： *SFQ回路

分類 (1件)： Josephson接合・素子  (BM04043E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 合金薄膜 ,  SQUID ,  磁場 ,  応答