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J-GLOBAL ID：201402209547028455   整理番号：14A1023448

Si+OH→SiO+H反応の断面積と速度定数の擬古典的軌道計算

Quasi-classical trajectory calculations of cross sections and rate constants for the Si+OH→SiO+H reaction

著者 (4件)： RIVERO-SANTAMARIA A. (Departamento de Radioquimica, Instituto Superior de Tecnologias y Ciencias Aplicadas, Habana 10600, Cuba) ,  DAYOU F. (Lab. d’Etude du Rayonnement et de la Matiere en Astrophysique (UMR 8112 du CNRS), Observatoire de Paris-Meudon ...) ,  RUBAYO-SONEIRA J. (Departamento de Fisica General, Instituto Superior de Tecnologias y Ciencias Aplicadas, Habana 10600, Cuba) ,  MONNERVILLE M. (Lab. de Physique des Lasers, Atomes et Molecules, UMR 8523 du CNRS, Univ. Lille I, Bat. P5, 59655 Villeneuve d’Ascq ...)
資料名： Chemical Physics Letters  (Chemical Physics Letters)
巻： 610-611  ページ： 335-340  発行年： 2014年08月28日 
JST資料番号： B0824A  ISSN： 0009-2614  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 動力学的計算に基づいたSi+OH→SiO+H反応の断面積と速度定数の最初の理論的な決定を報告した。SiOH/HSIOのX²A′基底電子状態のために最近開発されたab initioポテンシャルエネルギー面を使用して,OHのいくつかの回転状態について準古典軌道計算を行った。障壁なしの反応で予想される様に衝突エネルギーと共に挙動し,OHの回転励起にやや敏感であった。10-1000Kの範囲にわたって評価した熱速度定数は,200K以下以下で顕著な温度依存性を示し,20Kで4.3×10^-10cm³s^-1の最大値を示した。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ヒドロキシルラジカル ,  化学反応 ,  *反応速度定数 ,  *断面積 ,  *ab initio法 ,  *ポテンシャルエネルギー面 ,  温度依存性 ,  回転励起
準シソーラス用語： 反応断面積 ,  回転状態

分類 (1件)： 原子とラジカルの反応  (CB06030C)

タイトルに関連する用語 (3件)： 断面積 ,  速度定数 ,  軌道計算