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J-GLOBAL ID：201402209878308830   整理番号：14A1302543

ソフト摩擦転写法によるP3HT配向膜の作製

著者 (7件)： 今西正義 (広島大 大学院) ,  加治屋大介 (広島大 自然セ) ,  加治屋大介 (広島大 理) ,  小金澤智之 (高輝度光科学研究セ) ,  齋藤健一 (広島大 大学院) ,  齋藤健一 (広島大 自然セ) ,  齋藤健一 (広島大 理)
資料名： 薄膜太陽電池セミナー
巻： 6th  ページ： 129  発行年： 2014年 
JST資料番号： L3188B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリヘキシルチオフェン ,  *転写 ,  *分子配向 ,  *導電性高分子 ,  透明導電膜 ,  量子化学 ,  *高分子薄膜 ,  *酸化インジウムスズ ,  基板 ,  ラビング ,  スピンコーティング ,  顕微鏡観察 ,  X線回折 ,  X線光電子スペクトル ,  *摩擦転写 ,  ガラス基板
準シソーラス用語： *ソフト摩擦転写

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： 2-ヘキシルチオフェン

タイトルに関連する用語 (5件)： ソフト ,  摩擦転写 ,  P3HT ,  配向膜 ,  作製