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J-GLOBAL ID：201402211924900116   整理番号：14A0772048

ラビングで作製したP3HT配向膜の電荷移動度の増加

著者 (3件)： 加治屋大介 (広島大 自然セ) ,  小金澤智之 (高輝度光科学研究セ) ,  齋藤健一 (広島大 自然セ)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 94th  号： 2  ページ： 258  発行年： 2014年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリ(3-アルキルチオフェン)(P3HT)の薄膜をラビングし,P3HTの配向膜を作製した。ラビング前後のP3HT薄膜の電荷移動度を光伝導法で測定し,膜の構造を偏光吸収スペクトル,共鳴ラマンスペクトル,微小角入射X線回折,電子顕微鏡,AFM測定で調べた。その結果,ラビングによりP3HTの凝集・結晶化がおき,生成した凝集体の向きがface-on配向となり,面外方向の電荷移動度が最大で8倍増加することが明らかとなった。また,側鎖の立体規則性で移動度の増加量が変わり,立体規則性が低いP3HT分子を用いたときに大きな移動度の増加がおきることがわかった。(著者抄録)

シソーラス用語： *ポリヘキシルチオフェン ,  導電性高分子 ,  *ラビング ,  *薄膜 ,  *キャリア移動度 ,  光伝導 ,  スペクトル ,  共鳴Ramanスペクトル ,  X線回折 ,  電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  凝集 ,  結晶化 ,  前面 ,  分子配向 ,  側鎖 ,  立体規則性 ,  *配向膜 ,  偏光スペクトル ,  すれすれ入射X線回折
準シソーラス用語： *ポリ(3-ヘキシルチオフェン) ,  *電荷移動度 ,  微小角入射X線回折 ,  正面 ,  配向【分子】

分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： ラビング ,  作製 ,  P3HT ,  配向膜 ,  電荷移動度