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J-GLOBAL ID：201402211990948812   整理番号：14A0836833

エチレンスルフィドによる(シリル)(シリレン)タングステンおよびモリブデン錯体の反応に対する理論研究

Theoretical Study for the Reactions of (Silyl)(silylene)tungsten and -molybdenum Complexes with Ethylene Sulfide

著者 (4件)： ISHIGURO Yoshitomo (Gunma Univ., Kiryu, JPN) ,  KUDO Takako (Gunma Univ., Kiryu, JPN) ,  MURAOKA Takako (Gunma Univ., Kiryu, JPN) ,  UENO Keiji (Gunma Univ., Kiryu, JPN)
資料名： Organometallics  (Organometallics)
巻： 33  号： 11  ページ： 2704-2712  発行年： 2014年06月09日 
JST資料番号： E0965A  ISSN： 0276-7333  CODEN： ORGND7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： (シリル)(シリレン)タングステン錯体とモリブデン類似体の,硫黄供与試薬エチレンスルフィドとの一連の反応機構をab initio分子軌道法およびDFT(B3LYP)法で研究した。結果,中間体としてのη²-シランチオン-配位錯体の形成により反応が進む事,および,C=O結合が段階的に徐々に弱くなり,シランチオン配位子R₂Si=Sのπへの酸素の求核攻撃と,炭素へのSiH₃の移動により開裂する事が判明した。金属-配位子相互作用はモリブデン錯体よりタングステン錯体において強い事が分かった。また,タングステン錯体の反応のエネルギー障壁がモリブデンの反応のエネルギー障壁より高く,金属-配位子への硫黄原子の挿入ではモリブデン錯体の方が容易であった。結果として,この反応機構により最終製品がタングステン錯体の反応とモリブデンの場合で異なることが分かった。

シソーラス用語： *タングステン錯体 ,  *モリブデン錯体 ,  *反応機構 ,  分子軌道法 ,  密度汎関数法 ,  C-O結合 ,  二重結合 ,  開裂反応 ,  求核反応 ,  相互作用 ,  *硫黄 ,  挿入反応 ,  硫黄複素環化合物 ,  π結合
準シソーラス用語： DFT方法 ,  エネルギー障壁

分類 (1件)： 第6族,第7族元素の錯体  (CE01080F)

物質索引 (1件)： エチレンスルフィド

タイトルに関連する用語 (6件)： エチレンスルフィド ,  シリレン ,  タングステン ,  モリブデン錯体 ,  理論 ,  研究