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J-GLOBAL ID：201402212278255211   整理番号：14A0046590

インプリント法を用いた低損失・低クロストークGI型ポリマー光導波路回路の作製

Fabrication of Low-loss and Low-crosstalk Graded-Index Polymer Optical Waveguide Circuit Using an Imprint Method

著者 (2件)： 山下洋平 (慶応大) ,  石榑崇明 (慶応大 理工)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 113  号： 313(OPE2013 129-137)  ページ： 47-52  発行年： 2013年11月15日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： システムの低消費電力化,ノード間の情報伝送の大容量化・高速化に向けてボードレベルの光インターコネクション技術が注目されており,伝送路としてマルチモードポリマー並列光導波路に期待が集まっている。これまで我々は屈折率分布(GI)型光導波路のコア部への信号光の強い閉じ込め効果に着目し,安価でGI型ポリマー光導波路を容易に得られる方法としてインプリント法を考案し,実際にGI型コアポリマー光導波路の作製を試みてきた。本研究ではインプリント法の作製方法を詳細に検討し,インプリント法でしばしば問題となる残膜による並列コア間の架橋構造をほぼ除去することで,従来の作製方法と比べ低損失・低クロストークの導波路を得ることに成功した。さらに,インプリント法を用いて,直角交差導波路作製を試み,GI型導波路が,既存の階段屈折率(SI)型導波路に比べて,交差による損失の大幅な低減を可能にすることを実証した。(著者抄録)

シソーラス用語： *光導波路 ,  クロストーク ,  挿入損 ,  *リソグラフィー ,  相互接続
準シソーラス用語： *インプリントリソグラフィー ,  ポリマ光導波路 ,  光相互接続 ,  光配線 ,  *製造技術 ,  挿入損失

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低損失 ,  クロストーク ,  GI ,  ポリマー光導波路 ,  作製