抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ダイヤモンド状炭素(DLC)膜はその極めて優れた性質から,多方面での利用が具現化されつつある。その特性の中でトライボロジー特性は際立っており,摺動面への適用が進められている。しかしながら,DLC膜の絶縁性は静電気帯電を誘発し,利用環境中の塵埃の吸着を引き起こす課題がある。本研究においては,この問題に対して,DLC膜の帯電を排除する導電性の付与を着想し,ホウ素(B)添加の効果を検討した。B添加DLC膜の調製にはB(C
2H
5)
3を用いたRFプラズマCVDを実施した。実験においてはガス流量,B/C比率およびRFプラズマ条件を変化させた。得たDLC膜のB量測定,構造解析,電気抵抗率,硬度,密着力および摩擦摩耗特性評価を実施した。これらの実験から,Bの添加によりDLC膜の電気抵抗率を大幅に低減でき,その量を調製することで硬度および摩擦係数への悪影響を抑制できることを見出した。