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J-GLOBAL ID：201402216165636150   整理番号：14A1206759

フェロシリコン合金を用いてケイ素の溶媒精製を行う際のホウ素の分配に関する熱力学

Thermodynamics of boron distribution in solvent refining of silicon using ferrosilicon alloys

著者 (4件)： KHAJAVI Leili Tafaghodi (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Toronto, 184 Coll. Street, Suite 140, Toronto, Ontario M5S 3E4, CAN) ,  MORITA Kazuki (Inst. of Industrial Sci., The Univ. of Tokyo, 4-6-1, Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN) ,  YOSHIKAWA Takeshi (Inst. of Industrial Sci., The Univ. of Tokyo, 4-6-1, Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, JPN) ,  BARATI Mansoor (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Toronto, 184 Coll. Street, Suite 140, Toronto, Ontario M5S 3E4, CAN)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 619  ページ： 634-638  発行年： 2015年01月15日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 鉄を使って溶媒精製を行うことによりケイ素からホウ素を除去する効果を調べるために,ホウ素の無限希釈での精製されたケイ素と鉄-ケイ素のメルトの間のホウ素の分配係数を評価した。無限希釈でのホウ素の分配係数の推定値は,0.49±0.01(1583K),0.41±0.03(1533K)そして0.33±0.04(1483K)であった。分配係数が温度と共に高くなることは,高温ではホウ素の除去がしにくいことを示している。ホウ素の自己相互作用パラメータの推定値は,-96±12(1583K),-111±28(1533K)そして-159±45(1483K)であった。固体ケイ素中のホウ素の活量係数が得られ,温度とはlnγ_X⁰=(16317±282)(1/T)-(7.06±0.18)(X=B in solid Si)と関係付けられた。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *精製 ,  溶媒 ,  除去 ,  *ホウ素 ,  無限希釈 ,  メルト ,  *分配係数 ,  相互作用 ,  相互作用パラメータ ,  係数 ,  活量 ,  温度依存性 ,  鉄 ,  フェロシリコン ,  溶媒抽出
準シソーラス用語： *ホウ素除去 ,  活量係数 ,  自己相互作用 ,  *溶媒精製

分類 (1件)： 抽出平衡,分配平衡  (CB03030H)

タイトルに関連する用語 (8件)： フェロ ,  シリコン合金 ,  ケイ素 ,  溶媒 ,  精製 ,  ホウ素 ,  分配 ,  熱力学