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J-GLOBAL ID：201402217777705939   整理番号：14A0796948

パルスレーザ堆積で作成した高濃度酸素空格子点を持つSr₂MgMoO_6-δ薄膜

Sr₂MgMoO_6-δ thin films fabricated using pulsed-laser deposition with high concentrations of oxygen vacancies

著者 (6件)： SHIGEMATSU K. (Dep. of Chemistry, The Univ. of Tokyo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-0033, JPN) ,  CHIKAMATSU A. (Dep. of Chemistry, The Univ. of Tokyo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-0033, JPN) ,  FUKUMURA T. (Dep. of Chemistry, The Univ. of Tokyo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-0033, JPN) ,  TOYODA S. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Kyoto Univ., Yoshida-honmachi, Kyoto 606-8501, JPN) ,  IKENAGA E. (JASRI/SPring-8, Mikazuki-cho, Hyogo 679-5198, JPN) ,  HASEGAWA T. (Dep. of Chemistry, The Univ. of Tokyo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-0033, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 104  号： 26  ページ： 261901-261901-4  発行年： 2014年06月30日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *薄膜 ,  *エピタクシー ,  レーザ蒸着 ,  パルスレーザ照射 ,  *空格子点 ,  酸素 ,  電気抵抗率 ,  規則度 ,  マグネシウム ,  モリブデン ,  無秩序系 ,  X線回折 ,  X線光電子スペクトル ,  基板温度 ,  分圧 ,  ストロンチウム化合物 ,  マグネシウム化合物 ,  *モリブデン化合物 ,  酸化物 ,  ペロブスカイト型結晶 ,  カソード ,  電極材料 ,  パルスレーザ蒸着 ,  *酸素空格子点 ,  酸素分圧 ,  *エピタキシャル膜 ,  ダブルペロブスカイト ,  カソード材料【電池】
準シソーラス用語： *エピタクシー膜 ,  パルスレーザ堆積 ,  二重ペロブスカイト ,  正極材料

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： パルスレーザ堆積 ,  高濃度酸素 ,  空格子点 ,  薄膜