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J-GLOBAL ID：201402217934891253   整理番号：14A1107067

アニーリングにより誘導したPS-b-P2VP薄膜中の深さ依存構造変化

Depth-Dependent Structural Changes in PS-b-P2VP Thin Films Induced by Annealing

著者 (5件)： WERNECKE Jan (Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), Berlin, DEU) ,  OKUDA Hiroshi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  OGAWA Hiroki (Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., Hyogo, JPN) ,  SIEWERT Frank (Helmholtz Zentrum Berlin (HZB), Berlin, DEU) ,  KRUMREY Michael (Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), Berlin, DEU)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 47  号： 16  ページ： 5719-5727  発行年： 2014年08月26日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリスチレン-block-ポリ(2-ビニルピリジン)(PS-b-P2VP)(ブロックM_w=40500,41000)をトルエンに溶解し(2%w/w),シリコン基板上にスピンコーティングし,真空下60°Cで24時間アニールして,溶媒を除去した。共重合体のT_gは102.7°Cだった。膜を105°Cで2時間さらに熱アニール処理した。アニール前後のPS-b-P2VP薄膜を,ケイ素K端での散乱コントラストマッチングによるGISAXS測定して,構造変化に関する深さ分解情報を得た。アニール前のサンプルは,全フィルムを通して59nmのミクロ相分離距離をもつ垂直配向指紋様層状構造が見られた。アニール後,基質界面に向けた規則性は保たれ,約30nmの深さまでの表面で規則性の低下が見られたが,水平規則化への顕著な転移は観察されなかった。

シソーラス用語： 依存性 ,  変化 ,  *P2VP ,  *ポリスチレン ,  ジブロック共重合体 ,  スピンコーティング ,  ウエハ【IC】 ,  ガラス転移点 ,  小角X線散乱 ,  分解能 ,  ミクロ相分離 ,  分子配向 ,  アルキルベンゼン
準シソーラス用語： GISAXS ,  *PS-b-P2VP ,  *アニーリング ,  シリコン基板 ,  ポリスチレン-block-ポリ(2-ビニルピリジン) ,  *構造変化 ,  *深さ依存性 ,  深さ分解能 ,  垂直配向

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (1件)： トルエン

タイトルに関連する用語 (6件)： アニーリング ,  誘導 ,  PS ,  P2VP ,  薄膜 ,  構造変化