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J-GLOBAL ID：201402219353674025   整理番号：14A1016367

Rh(111)上のZrドープ酸化セリウムの成長

The growth of Zr-doped cerium oxide film on Rh(111)

著者 (2件)： CHAN L. H. (Nagoya Univ.) ,  YUHARA J. (Nagoya Univ.)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 69  号： 2 第4分冊  ページ： 664  発行年： 2014年08月22日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *酸化セリウム ,  *ドーピング ,  ジルコニウム ,  基板 ,  ロジウム ,  *形態 ,  *化学量論 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  低速電子回折 ,  *結晶構造 ,  *薄膜

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： Rh ,  Zr ,  ドープ ,  酸化セリウム ,  成長