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J-GLOBAL ID：201402220476420131   整理番号：14A1483256

静電堆積と組み合わせた超臨界溶液の急速膨張(RESS-ED)によって生成した超疎水性高分子被覆

Superhydrophobic polymeric coatings produced by rapid expansion of supercritical solutions combined with electrostatic deposition (RESS-ED)

著者 (8件)： OVASKAINEN Louise (KTH Royal Inst. of Technol., School of Chemical Sci. and Engineering, Dep. of Fibre and Polymer Technol. ...) ,  CHIGOME Samuel (Rhodes Univ., Dep. of Chemistry, Grahamstown 6140, South Africa) ,  BIRKIN Natasha A. (The Univ. of Nottingham, School of Chemistry, Univ. Park, Nottingham NG7 2RD, GBR) ,  HOWDLE Steven M. (The Univ. of Nottingham, School of Chemistry, Univ. Park, Nottingham NG7 2RD, GBR) ,  TORTO Nelson (Rhodes Univ., Dep. of Chemistry, Grahamstown 6140, South Africa) ,  WAGBERG Lars (KTH Royal Inst. of Technol., School of Chemical Sci. and Engineering, Dep. of Fibre and Polymer Technol. ...) ,  WAGBERG Lars (KTH Royal Inst. of Technol., The Wallenberg Wood Sci. Centre, SWE) ,  TURNER Charlotta (Lund Univ., Dep. of Chemistry, Centre for Analysis and Synthesis, P.O. Box 124, SE-221 00 Lund, SWE)
資料名： Journal of Supercritical Fluids  (Journal of Supercritical Fluids)
巻： 95  ページ： 610-617  発行年： 2014年11月 
JST資料番号： W1591A  ISSN： 0896-8446  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,静電堆積(ED)と超臨界溶液(RESS)の急速膨張の組合せによって超疎水性高分子被覆を生成する方法を発表した。超臨界二酸化炭素とアセトンの混合物中に共重合体,ポリ酢酸ビニル-ポリピバル酸ビニルを溶解し,接地コレクタ上に配置した表面上に8kVの印加電圧でノズルを介して噴霧した。噴霧距離と高分子濃度を変え最適噴霧条件を見出した。電圧の有る場合と無い場合での両方で噴霧した場合,超疎水性表面が生成した。撥水性表面がRESS-ED技術を使用してより多くの処理パラメータで生成できた。RESS-EDプロセスの使用による最大の改善は,印加電圧の無い噴霧と比較して生成高分子粒子のより平らな表面被覆のより大きくより薄い被覆が生成されることであった。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *疎水性 ,  *超臨界流体 ,  *ポリ酢酸ビニル ,  *膨張 ,  共重合体 ,  電場効果 ,  二酸化炭素 ,  表面被覆 ,  噴霧 ,  堆積 ,  静電気 ,  脂肪族ケトン ,  超臨界二酸化炭素 ,  超疎水性 ,  撥水性

分類 (2件)： その他の高分子材料  (YH07150C) ,  成形工程とその装置一般  (YH04030C)

物質索引 (2件)： ピバル酸ビニル ,  アセトン

タイトルに関連する用語 (5件)： 堆積 ,  超臨界 ,  溶液 ,  膨張 ,  疎水性高分子