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J-GLOBAL ID:201402225242532922   整理番号:14A0454750

塩化物溶液からの酸化亜鉛薄膜の電気化学堆積に及ぼす堆積温度の効果

Effects of Deposition Temperature on the Electrochemical Deposition of Zinc Oxide Thin Films from a Chloride Solution
著者 (7件):
資料名:
巻: 55  号:ページ: 728-734 (J-STAGE)  発行年: 2014年 
JST資料番号: G0668A  ISSN: 1345-9678  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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塩化物溶液から電気化学的に堆積させたZnO薄膜の組織的,電気的および光学性質を調べる。堆積温度に焦点を当てる。バンドギャップエネルギーは,堆積温度が60から80°Cへ上昇すると,3.50から3.44eVへ減少した。誘導と価電子の両シフトおよび多数のキャリアによって生じるBurstein-Moss効果に関してバンドギャップのこの変化を考察する。堆積温度の上昇とともにZnO薄膜のキャリア密度の増加を観察した。1×1021cm-3の目立って高いキャリア密度を示した。キャリア密度の生因起源も調べた。ZnO薄膜のCl-量は堆積温度の上昇とともに減少したが,ドナーとして作用するCl-の増加を示した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
引用文献 (47件):
  • 1) S. Zhou, X. Zhang, X. Meng, K. Zou, X. Fan, S. Wu and S. Lee: Nanotechnology 15 (2004) 1152.
  • 2) X. Li, X. Xu, Z. Quan, J. Guo, H. Wu and G. A. Gehring: J. Appl. Phys. 105 (2009) 103914.
  • 3) M. Kemell, F. Dartigues, M. Ritala and M. Leskelä: Thin Solid Films 434 (2003) 20.
  • 4) X. Han, K. Han and M. Tao: ECS Trans. 25 (2010) 93.
  • 5) W. Liu, F. Xiu, K. Sun, Y. Xie, K. L. Wang, Y. Wang, J. Zou, Z. Yang and J. Liu: J. Am. Chem. Soc. 132 (2010) 2498.
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