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J-GLOBAL ID：201402225568221277   整理番号：14A0064062

チオフェノキシラジカルの248,193,および157nmにおける光解離動力学

Photodissociation Dynamics of the Thiophenoxy Radical at 248, 193, and 157nm

著者 (14件)： HARRISON Aaron W. (Univ. California, California, USA) ,  HARRISON Aaron W. (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA) ,  LIM Jeong Sik (Univ. California, California, USA) ,  LIM Jeong Sik (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA) ,  LIM Jeong Sik (Korea Res. Inst. Standards and Sci., Daejeon, KOR) ,  RYAZANOV Mikhail (Univ. California, California, USA) ,  RYAZANOV Mikhail (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA) ,  WANG Gregory (Univ. California, California, USA) ,  WANG Gregory (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA) ,  GAO Shumin (Univ. California, California, USA) ,  GAO Shumin (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA) ,  GAO Shumin (Tsinghua Univ., Beijing, CHN) ,  NEUMARK Daniel M. (Univ. California, California, USA) ,  NEUMARK Daniel M. (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA)
資料名： Journal of Physical Chemistry A  (Journal of Physical Chemistry A)
巻： 117  号： 46  ページ： 11970-11978  発行年： 2013年11月21日 
JST資料番号： C0334B  ISSN： 1089-5639  CODEN： JPCAFH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： チオフェノキシドアニオンの光脱離により発生させたチオフェノキシラジカルの紫外レーザ照射(248,193,157nm)による光解離生成物を時間相関測定し,励起状態動力学を検討した。SH+o-ベンザイン,CS+シクロペンタジエニルおよび若干のS+フェニルラジカル生成を検出した。ROMP2/aug-cc-pVTZ//B3LYP/cc-pVDZレベルの理論計算によりポテンシャルエネルギー面を算出した。初期励起状態から内部変換により基底状態における確率的分岐を考えた。S,SH解離は無障壁で進行する。並進エネルギー分布の計算結果は実測値とよく対応した。

シソーラス用語： アニオン ,  光脱離【電子脱離】 ,  *ラジカル ,  *光解離 ,  *動力学 ,  紫外レーザ ,  反応生成物 ,  脂環式炭化水素 ,  MP2法 ,  密度汎関数法 ,  ポテンシャルエネルギー面 ,  基底状態 ,  無放射遷移 ,  分岐比 ,  エネルギー分布 ,  同位体効果 ,  RRKM理論 ,  チオール ,  芳香族化合物 ,  アリールラジカル ,  有機化合物
準シソーラス用語： シクロペンタジエニル ,  *励起状態動力学

分類 (2件)： 光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  分子の電子構造  (BH05010Q)

物質索引 (3件)： チオフェノール ,  フェニルラジカル ,  o-ベンザイン

タイトルに関連する用語 (2件)： 光解離 ,  動力学