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J-GLOBAL ID：201402227218860946   整理番号：14A0155611

Si単結晶薄膜におけるピコ秒過渡的格子歪みの解析

著者 (18件)： 鬼塚怜奈 (関西学院大 理工) ,  鬼塚怜奈 (理研/SPring-8) ,  西森一喜 (関西学院大 理工) ,  西森一喜 (理研/SPring-8) ,  NEWTON Marcus (北大 電子科研) ,  小川奏 (理研/SPring-8) ,  佐藤尭洋 (理研/SPring-8) ,  富樫格 (JASRI) ,  矢橋牧名 (理研/SPring-8) ,  境田真志 (東大 大学院) ,  徳田一弥 (東大 大学院) ,  河口智也 (東大 大学院) ,  高橋功 (関西学院大 理工) ,  市坪哲 (東大 大学院) ,  松原英一郎 (東大 大学院) ,  西野吉則 (北大 電子科研) ,  田中義人 (理研/SPring-8) ,  田中義人 (関西学院大 理工)
資料名： 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集  (日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム)
巻： 27th  ページ： 84  発行年： 2014年01月11日 
JST資料番号： L1310A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *格子歪 ,  ピコ秒 ,  単結晶 ,  *半導体薄膜 ,  X線レーザ ,  自由電子レーザ ,  SOI構造 ,  パルスレーザ ,  強度 ,  *ケイ素 ,  X線回折 ,  ピーク値 ,  フェムト秒レーザ ,  SACLA【レーザ】 ,  すれすれ入射X線回折 ,  回折強度 ,  *シリコン薄膜
準シソーラス用語： Braggピーク ,  *Si薄膜 ,  フェムト秒パルスレーザ ,  時間分解コヒーレントX線回折

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  X線回折法  (BK01020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  単結晶薄膜 ,  ピコ秒 ,  格子歪み ,  解析