文献
J-GLOBAL ID:201402227319806250   整理番号:14A0903024

対向拡散化学蒸着法による無機シリカ逆浸透膜の開発

Development of Inorganic Silica Reverse Osmosis Membranes by Using a Counter-Diffusion Chemical Vapor Deposition Method
著者 (5件):
資料名:
巻: 47  号: 4/7  ページ: 574-578  発行年: 2014年07月 
JST資料番号: S0629A  ISSN: 0021-9592  CODEN: JCEJAQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
シリカハイブリッド膜が対向拡散化学蒸着(CVD)法を用いて逆浸透(RO)膜として使用するために開発された。シリカ源(フェニルトリメトキシシラン:PhTMOS)とO3を90分間300°Cで多孔質アルミナ基板の反対側に供給した。3.0 MPa,100mg L-1NaClでRO透過試験を行った。最高のNaCl除去率は1.7 kg m-2h-1の全フラックスで94.2%であった。モジュール長は非常に選択性のRO膜を得る上で重要な因子であった。短いモジュール(6cm)はモジュール内のより高いO3濃度により良好であった。シリカ表面上のフェニル基の分解条件をPhTMOSの加水分解粉末に対して議論した。FT-IR測定によると,フェニル基は300°Cで90分間O3処理後のシリカ表面上に残ったが,一方シラノール基の数は300°CでO3処理時に約30%減少した。高いNa+の除去率は膜中のシラノール基の減少によって説明できた。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
膜分離  ,  その他の無機工業薬品,無機材料 
物質索引 (1件):
物質索引
文献のテーマを表す化学物質のキーワードです
引用文献 (15件):
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る