酸化グラフェンのコロイドからの高い表面積のグラフェン単独体の活性化経路

WANG Shuwen; TRISTAN Ferdinando; MINAMI Daiki; FUJIMORI Toshihiko; CRUZ-SILVA Rodolfo; TERRONES Mauricio; TAKEUCHI Kenji; TESHIMA Katsuya; RODRIGUEZ-REINOSO Francisco; ENDO Morinobu; KANEKO Katsumi

文献

J-GLOBAL ID：201402228295716641 整理番号：14A0686698

酸化グラフェンのコロイドからの高い表面積のグラフェン単独体の活性化経路

Activation routes for high surface area graphene monoliths from graphene oxide colloids

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著者 (11件)：

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Carbon (Carbon)

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巻： 76 ページ： 220-231 発行年： 2014年09月
JST資料番号： H0270B ISSN： 0008-6223 CODEN： CRBNA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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単一方向の凍結乾燥法で酸化グラフェンコロイドから作製したグラフェン単独体について,CO₂活性化やZnCl₂またはH₃PO₄やKOH活性化を使用する化学活性化の典型的活性化プロセスで活性化した。グラフェン単独体の空孔度の発達は活性化の方法に著しく依存する。最も高い表面積を有する単独体はKOH活性化法で得られた。1760~2150m²g^-1の範囲の表面積を持つグラフェン単独体の生産には,KOH活性化だけが有効である。KOH活性化法による空孔度発達の機構を提案する。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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