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J-GLOBAL ID：201402230684856135   整理番号：14A0033067

ZnMgO薄膜の構造と光ルミネセンスに対する基板温度の影響

Effect of Substrate Temperature on Structure and Photoluminescence of ZnMgO Films

著者 (8件)： Dong Lina (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian) ,  Wang Yuxin (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian) ,  Sun Jingchang (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian) ,  Zheng Yaru (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian) ,  Zhang Huan (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian) ,  Liang Ming (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian) ,  Lin Maokui (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian) ,  Cui Shuo (School of Physics and Electronic Technol., Liaoning Normal Univ., Dalian)
資料名： Guangpuxue yu Guangpu Fenxi  (Guangpuxue yu Guangpu Fenxi)
巻： 33  号： 8  ページ： 2051-2054  発行年： 2013年 
JST資料番号： C2093A  ISSN： 1000-0593  CODEN： GYGFED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ZnMgO薄膜を異なる基板温度(450550 °C)において超音波スプレー熱分解により石英ガラス基板上に蒸着させた。薄膜の構造,表面モルフォロジーおよび光学的性質をX線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM)および光ルミネセンス(PL)分光法により調べた。その結果,基板温度が薄膜の構造と光学的性質に大きく影響することを示した。全薄膜は六方晶系ウルツ鉱多結晶構造をもち,C軸選択的配向が530°Cの最適温度で達成された。この温度で調整した試料は均一粒度,平滑表面モルフォロジーおよび良い結晶品質をもっていた。深準位発光の幅は温度の上昇とともに減少し,近バンド端(NBE)紫外発光ピークが出現した。温度が530°Cに達すると,明瞭なNBE発光ピークが374.5nmで観測され,一方,深準位発光はほとんど検出されなかった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *酸化マグネシウム ,  *酸化亜鉛 ,  *半導体薄膜 ,  *光ルミネセンス ,  *基板温度 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  光学的性質 ,  滑面 ,  深い準位 ,  化合物半導体
準シソーラス用語： 結晶品質

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光学的測定とその装置一般  (BD07010S)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  光ルミネセンス ,  基板温度