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J-GLOBAL ID：201402236652952998   整理番号：14A1146525

基板温度を制御することによるリン酸カルシウム溶液からのヒドロキシアパタイト薄膜の堆積

Deposition of hydroxyapatite thin films from saturated calcium phosphate solution by controlling the substrate temperature

著者 (5件)： MIYAZAKI Hidetoshi (Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Shimane Univ.) ,  MAEDA Hironobu (Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Shimane Univ.) ,  YOSHIDA Shigeki (Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Shimane Univ.) ,  SUZUKI Hisao (Graduate School of Sci. and Technol., Shizuoka Univ.) ,  OTA Toshitaka (Ceramic Res. Lab., Nagoya Inst. of Technol.)
資料名： Journal of the Ceramic Society of Japan (Web)  (Journal of the Ceramic Society of Japan (Web))
巻： 122  号： 1429  ページ： 835-837 (J-STAGE)  発行年： 2014年 
JST資料番号： U0409A  ISSN： 1348-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リン酸カルシウム水溶液の溶解度は温度の上昇とともに低下する。本調査においては,ヒドロキシアパタイト(HAp)薄膜を,この溶液温度に依存するリン酸カルシウム溶解度を適用することで種々の基板上に堆積させ,溶液温度を10°Cに保持し,基板温度を約80°Cに維持した。単相のHAp薄膜をSiウェハと金属Ti基板上に堆積させた。HApとβ-リン酸三カルシウム混合相がYSZ基板上の膜について観察された。全ての結果としての膜は非常に緻密で,すべての基板上での膜の堆積速度は10~15nm/分であった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ヒドロキシアパタイト ,  リン酸カルシウム ,  水溶液 ,  溶解度 ,  基板温度 ,  *堆積 ,  *セラミック膜 ,  堆積速度

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (13件)：

• 1) M. J. Filaggi, N. A. Coombs and R. M. Pilliar, J. Biomed. Mater. Res., 25, 1211–1229 (1991).
• 2) L. M. Boulton, P. J. Gregson, M. Tuke and T. Baldwin, Mater. Lett., 12, 1–6 (1991).
• 3) T. Kokubo, Acta Mater., 46, 2519–2527 (1998).
• 4) T. Yano, K. Budiyanto, K. Yoshida and T. Iseki, Fusion Eng. Des., 41, 157–163 (1998).
• 5) P. Ducheyne, S. Radin, M. Heughebaert and J. C. Heughebaert, Biomater., 11, 244–254 (1990).

タイトルに関連する用語 (6件)： 基板温度 ,  リン酸カルシウム ,  溶液 ,  ヒドロキシアパタイト ,  薄膜 ,  堆積