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J-GLOBAL ID：201402236976730459   整理番号：14A0362566

ブロック共重合体リソグラフィー

Block Copolymer Lithography

著者 (5件)： BATES Christopher M. (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  MAHER Michael J. (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  JANES Dustin W. (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  ELLISON Christopher J. (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  WILLSON C. Grant (Univ. Texas at Austin, Texas, USA)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 47  号： 1  ページ： 2-12  発行年： 2014年01月14日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ブロック共重合体(BP)リソグラフィーの現状を紹介し,第一世代デバイスとして実験および理論的薄膜研究に裏打ちされたBPリソグラフィーの研究から製造への移行に伴う問題点,最適な材料,工程および分析技術に関して,特に熱アニーリングの発展と課題に焦点を絞って考察した。ポリスチレン-block-ポリメタクリル酸メチルは,現在の工業的BPリソグラフィーの標準である。相互作用パラメータ(χ)は解像度と欠陥除去の向上に,今後ますます重要で,ブロックアーキテクチャ,分散分散,トップ界面制御などの他の課題と併せて論じた。

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *リソグラフィー ,  分解能 ,  *相互作用パラメータ ,  熱処理 ,  パターン形成 ,  相互作用 ,  高分子薄膜 ,  共重合体
準シソーラス用語： パターンニング ,  *ブロック共重合体リソグラフィー ,  解像度 ,  界面相互作用 ,  *熱アニーリング ,  ポリスチレン-メタクリル酸メチル

分類 (4件)： 共重合  (CG04030D) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： ブロック共重合体リソグラフィー