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J-GLOBAL ID：201402237587419949   整理番号：14A0290085

ゾル-ゲル反応による透明ポリイミド/シリカ複合膜の調製と特性解析

Preparation and Characterization of Transparent Polyimide/Silica Composite Films by a Sol-Gel Reaction

著者 (7件)： KWON Se Jin (Yeungnam Univ., Gyeongsan, KOR) ,  HWANG Cho Rong (Korea Res. Inst. Chemical Technol., Daejon, KOR) ,  JANG A-Reum (Yeungnam Univ., Gyeongsan, KOR) ,  BAE Jun (Yeungnam Univ., Gyeongsan, KOR) ,  CHAE Boknam (Pohang Accelerator Lab., Pohang, KOR) ,  WON Jong Chan (Korea Res. Inst. Chemical Technol., Daejon, KOR) ,  LEE Seung Woo (Yeungnam Univ., Gyeongsan, KOR)
資料名： Molecular Crystals and Liquid Crystals  (Molecular Crystals and Liquid Crystals)
巻： 584  ページ： 197-205  発行年： 2013年 
JST資料番号： B0877A  ISSN： 1542-1406  CODEN： MCLCE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： カルボン酸基を有する透明なポリ(アミド酸)(PAA)と,無機材料としての種々の量のテトラエチルオルトケイ酸塩(TEOS)を用いた透明PI/シリカ複合膜の調製について報告した。4,4′-(ヘキサフルオロイソプロピりデン)ジフタル酸無水物(6FDA),2,2′-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)及び3,5-ジアミノ安息香酸(DABA)からなるPAA溶液とTEOSとの間の相互作用に基づいたPAA/シリカ複合溶液の熱イミド化によって透明PI/シリカ複合膜を調整した。この複合膜は300°Cまでにガラス転移点を示さず,熱分解温度が高かった。曇り度及び黄色指数はTEOS濃度を増すとともに上昇した。一方平面内熱膨張率はTEOS含量とともに低下した。透明な複合膜はTEOS含量20重量%に至るまで得られた。本材料は柔軟電子基板として有望である。

シソーラス用語： *ゾル-ゲル法 ,  *透明材料 ,  *高分子有機-無機ハイブリッド ,  *高分子薄膜 ,  ポリアミド酸 ,  イミド化 ,  熱膨張係数 ,  黄変 ,  混濁度 ,  分解温度 ,  重縮合 ,  *6FDAポリイミド ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  熱分解温度

分類 (3件)： 重縮合  (CG04050Z) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (4件)： 3,5-ジメチル安息香酸 ,  6FDA ,  テトラエトキシシラン ,  2,2′-ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル-4,4′-ジアミン

タイトルに関連する用語 (6件)： ゾル-ゲル反応 ,  ポリイミド ,  シリカ ,  複合膜 ,  調製 ,  特性解析