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J-GLOBAL ID:201402248401783540   整理番号:13A1958672

ピコ秒及びフェムト秒レーザによる薄膜太陽電池の罫書き

Scribing of Thin-Film Solar Cells with Picosecond and Femtosecond Lasers
著者 (6件):
資料名:
巻:号:ページ: 33-37 (WEB ONLY)  発行年: 2012年02月 
JST資料番号: U0377A  ISSN: 1880-0688  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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薄膜太陽電池の拡大とともに,基板上の薄膜の大規模パターニング技術の開発が促され,レーザによる罫書きが有望である。本報では,ピコ秒及びフェムト秒レーザ罫書きを比較する。そのため,パルス幅10psのNd:YVO4モードロックレーザと,パルス幅300fsのTi:サファイアレーザを用いた。レーザ罫書きのいわゆるP3ステップに着目し,Mo裏面電極に照射した。見かけ品質を光学及び走査電子顕微鏡で制御した。組立工程前のレーザ罫書き完了セルについて,変換効率試験,ロックインサーモグラフ(LIT)及びレーザビーム誘起電流(LBIC)測定を行った。複合薄膜構造で,両パルス幅で,Mo層の無損傷照射が可能だった。LIT及びLBIC測定によれば,レーザ罫書き域付近に内部短絡の形成は確証されない。効率試験では,フェムト秒レーザ罫書き後に,僅かに高い太陽電池性能が見られた。しかし,太陽電池効率の限界的低下が両パルス幅で見られた。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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太陽電池  ,  レーザの応用 
引用文献 (13件):
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