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J-GLOBAL ID：201402248972587471   整理番号：14A0769558

種々の無機基板上での有機単分子層の加水分解的および熱的安定性

Hydrolytic and Thermal Stability of Organic Monolayers on Various Inorganic Substrates

著者 (13件)： BHAIRAMADGI Nagendra S. (Wageningen Univ. and Res. Center, Wageningen, NLD) ,  PUJARI Sidharam P. (Wageningen Univ. and Res. Center, Wageningen, NLD) ,  TROVELA Florencio Gerardo (King Abdulaziz Univ., Jeddah, SAU) ,  DEBRASSI Aline (Wageningen Univ. and Res. Center, Wageningen, NLD) ,  KHAMIS Ahmed Arafat (King Abdulaziz Univ., Jeddah, SAU) ,  ALONSO Jose Maria (Wageningen Univ. and Res. Center, Wageningen, NLD) ,  AL ZAHRANI Abdulrahim A. (King Abdulaziz Univ., Jeddah, SAU) ,  WENNEKES Tom (Wageningen Univ. and Res. Center, Wageningen, NLD) ,  AL-TURAIF Hamad A. (King Abdulaziz Univ., Jeddah, SAU) ,  VAN RIJN Cees (Wageningen Univ. and Res. Center, Wageningen, NLD) ,  ALHAMED Yahia A. (King Abdulaziz Univ., Jeddah, SAU) ,  ZUILHOF Han (Wageningen Univ. and Res. Center, Wageningen, NLD) ,  ZUILHOF Han (King Abdulaziz Univ., Jeddah, SAU)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 30  号： 20  ページ： 5829-5839  発行年： 2014年05月27日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機単分子層は種々の分野で適用されており,その形成には,多くの場合,無機物基板が用いられる。単分子層は基板と周辺環境間の界面層として作用するため,単分子層の安定性を保持することは重要である。本稿では,Si,SiC,SiN,SiO₂,CrN,ITO,PAO,Au,ステンレス表面上での24の異なる種類の有機単分子層の加水分解および熱的安定性について検討を行った。これら表面は,C₁₈のアルキル鎖をもち,異なる表面官能基をもつ有機化合物により修飾した。結果的に,Si(111),Si(100),SiC上に結合したアルキン単分子層は,酸性,中性下で最も安定な単分子層であることが分った。また,Si(111),Si(100),SiC上に共有結合したアルキンとアルケン単分子層の両方が優れた耐熱性を示すことが分った。

シソーラス用語： *単分子層 ,  *加水分解 ,  *熱安定性 ,  ケイ素 ,  炭化ケイ素 ,  窒化ケイ素 ,  酸化ケイ素 ,  クロム化合物 ,  窒化物 ,  酸化インジウムスズ ,  多孔性 ,  酸化アルミニウム ,  金 ,  ステンレス鋼 ,  基板 ,  *境界層 ,  *無機質 ,  *有機化合物 ,  基 ,  X線光電子分光法 ,  接触角 ,  pH依存性 ,  経時変化 ,  温度依存性 ,  *化学修飾
準シソーラス用語： *界面層 ,  官能基 ,  窒化クロム

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (3件)： 単分子層 ,  加水分解 ,  熱的安定性