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J-GLOBAL ID：201402251873339017   整理番号：14A1484295

三酸化タングステンのナノ構造薄膜に与えるアニーリングとプロセス条件の影響

Influence of annealing and processing conditions on nano-structured thin films of tungsten trioxide

著者 (5件)： TOUIHRI S. (Unite de physique des dispositifs a semi-conducteurs, Fac. des sciences de Tunis, Univ. de Tunis El Manar, 2092 ...) ,  ARFAOUI A. (Unite de physique des dispositifs a semi-conducteurs, Fac. des sciences de Tunis, Univ. de Tunis El Manar, 2092 ...) ,  BOUBAKER K. (Unite de physique des dispositifs a semi-conducteurs, Fac. des sciences de Tunis, Univ. de Tunis El Manar, 2092 ...) ,  ESSAIDI H. (Unite de physique des dispositifs a semi-conducteurs, Fac. des sciences de Tunis, Univ. de Tunis El Manar, 2092 ...) ,  BERNEDE J.c. (LUNAM, Univ. de Nantes, Moltech Anjou, CNRS, UMR 6200, FSTN, 2 Rue de la Houssiniere, BP 92208, Nantes F-44322, FRA)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 29  ページ： 223-230  発行年： 2015年01月 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 遷移金属酸化物は,最近の文献でかなりな関心を持たれてている化合物の新しいクラスを代表している。これらの材料の中で,三酸化タングステンは,その可視光での水の光酸化,ナノ結晶での高い光電流,いくつかのガスにたいする良好な検出特性から大きな可能性を示している。本研究の目的は,真空下の熱蒸着で製作したWO₃薄膜の性質に与える熱処理条件の影響を調べることにある。異なる熱処理条件にたいするWO₃薄膜の物理化学的性質をX線回折(XRD),マイクロプローブエレクトロニクス,走査電子顕微鏡(SEM)で調べた。光学的測定は透過率と反射率測定である。熱後処理した三酸化タングステン薄膜の物理化学的性質の調査により,真空で処理した層は大気中でアニールしたものよりも不定形構造であり,処理温度に依存して異なる結晶学的構造で結晶化する。酸素中でアニールした層は単斜晶結晶構造を持つ。これらの膜の結晶性と透過率が劇的に改善されたことを記録した。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *真空蒸着 ,  結晶構造 ,  光学定数 ,  酸化タングステン ,  ナノ構造 ,  超薄膜 ,  *焼なまし ,  酸化物 ,  遷移金属化合物 ,  熱処理条件 ,  化学的性質 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  画像 ,  透過率 ,  ナノシート
準シソーラス用語： SEM画像 ,  アニーリング ,  ナノ構造体薄膜 ,  *三酸化タングステン ,  遷移金属酸化物 ,  熱蒸着 ,  *物理化学的性質

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 三酸化タングステン ,  ナノ構造 ,  薄膜 ,  アニーリング ,  プロセス条件