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J-GLOBAL ID:201402253680739274   整理番号:14A1360425

r.f.マグネトロンスパッタリングによるYAlO3(100)斜方晶基板上への0.9(BiFeO3)-0.1(BiCoO3)単斜晶エピタキシャル膜の製膜

Preparation of monoclinic 0.9(BiFeO3)-0.1(BiCoO3) epitaxial films on orthorhombic YAlO3 (100) substrates by r.f. magnetron sputtering
著者 (5件):
資料名:
巻: 409  ページ: 18-22  発行年: 2015年01月01日 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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r.f.マグネトロンスパッタリングによって,0.9BiFeO3-0.1BiCoO3(BFCO)膜(t=100nm)をYAlO3(YAO)(100)斜方晶基板上に製膜した。膜の平坦性,結晶化度,結晶対称性および二次相形成は,ArとO2のスパッタリングガス圧力に強く影響を受けた。φスキャン測定から,膜が基板に対してエピタキシャル成長し,[101]p(101)pBFCO∥[101]p(101)pYAOの結晶学的関係を有していることが明らかになった。X線逆格子マッピングから,BFCO膜の結晶対称性が,バルクBFCOのCm対称性よりも擬立方体のような単斜晶構造であり,MC相を有していることが明らかになった。断面透過型電子顕微鏡法による分析から,7%の格子不整の結果として,膜が界面から10nm未満では強い圧縮ひずみを有しているが,界面から遠ざかるにしたがって圧縮ひずみが単調に緩和することが明らかになった。磁気測定から,歪んだ単斜晶BFCOは,菱面体晶BFCOと比較して,小さい磁化を有していることが明らかになった。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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