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J-GLOBAL ID：201402256849662917   整理番号：14A0226335

Au/Cr₂O3/FeCr/CeO₂/Siキャパシタにおける磁気フィルタ効果を利用した注入電荷調節

Injected Charge Modulation Using Magnetic Filtering Effect in Au/Cr₂O₃FeCr/CeO₂/Si Capacitor

著者 (4件)： YOKOTA Takeshi (Dep. of Material Sci. and Engineering, Graduate School of Nagoya Inst. of Technol., JPN) ,  ICHIKAWA Koji (Dep. of Material Sci. and Engineering, Graduate School of Nagoya Inst. of Technol., JPN) ,  MURATA Shotaro (Dep. of Material Sci. and Engineering, Graduate School of Nagoya Inst. of Technol., JPN) ,  GOMI Manabu (Dep. of Material Sci. and Engineering, Graduate School of Nagoya Inst. of Technol., JPN)
資料名： e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))
巻： 11  ページ： 122-126 (J-STAGE)  発行年： 2013年 
JST資料番号： U0016A  ISSN： 1348-0391  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 絶縁体が,磁性材料から成る金属(Au)/絶縁体(Cr₂O3/FeCr/CeO₂)/半導体(Si)キャパシタのキャリア注入過程に対する外部磁場影響を調べた。電場印加により,SiからCeO₂層を通して伝播する電子は,FeCr層や,FeCr層周辺で生成する酸素欠乏層へ注入される。磁場印加時,本キャパシタのヒステリシス窓幅が増加した。磁場下のI-V曲線分析では,この増加はFeCr層の磁気状態に因ると思われることを明らかにした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 磁気フィルタ ,  *コンデンサ ,  磁気的性質 ,  状態 ,  磁性材料 ,  酸化クロム ,  鉄合金 ,  クロム含有合金 ,  絶縁材料 ,  キャリア注入 ,  外部磁場 ,  電圧 ,  ヒステリシス ,  電位 ,  電気化学 ,  範囲 ,  電流電圧特性 ,  特性曲線 ,  絶縁体
準シソーラス用語： *キャパシタ ,  磁気状態 ,  電子注入 ,  印加磁場 ,  印加電圧 ,  電気化学窓

分類 (2件)： LCR部品  (NA05030D) ,  金属-絶縁体-半導体構造  (BM03085X)

タイトルに関連する用語 (8件)： Au ,  Cr2O3 ,  Si ,  キャパシタ ,  磁気フィルタ ,  注入 ,  電荷 ,  調節