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J-GLOBAL ID：201402259503662952   整理番号：14A0066800

ストロンチウムのタンタル添加六方晶系酸化タングステンへの吸着

Strontium adsorption on tantalum-doped hexagonal tungsten oxide

著者 (11件)： LI Xingliang (Inst. of Nuclear Chemistry and Physics, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang 621900, CHN) ,  LI Xingliang (Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Sichuan Univ., Chengdu 610064, CHN) ,  MU Wanjun (Inst. of Nuclear Chemistry and Physics, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang 621900, CHN) ,  XIE Xiang (Inst. of Nuclear Chemistry and Physics, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang 621900, CHN) ,  LIU Bijun (Inst. of Nuclear Chemistry and Physics, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang 621900, CHN) ,  TANG Hui (Inst. of Nuclear Chemistry and Physics, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang 621900, CHN) ,  ZHOU Guanhong (Inst. of Nuclear Chemistry and Physics, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang 621900, CHN) ,  WEI Hongyuan (Inst. of Nuclear Chemistry and Physics, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang 621900, CHN) ,  JIAN Yuan (Inst. of Nuclear Chemistry and Physics, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang 621900, CHN) ,  JIAN Yuan (Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Sichuan Univ., Chengdu 610064, CHN) ,  LUO Shunzhong (Inst. of Nuclear Chemistry and Physics, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang 621900, CHN)
資料名： Journal of Hazardous Materials  (Journal of Hazardous Materials)
巻： 264  ページ： 386-394  発行年： 2014年01月15日 
JST資料番号： B0362A  ISSN： 0304-3894  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 六方晶系酸化タングステン(hex-WO₃)は,原子力発電所或いは核分裂⁹⁹Mo生産廃棄物からの¹³⁷Cs及び⁹⁰Sr分離能を有する。本研究の目的は,Sr²⁺吸着用hex-WO₃の能力向上にある。Ta添加hex-WO₃を,タングステン酸ナトリウム二水和物及び塩化タンタルから濃塩酸中,硫酸アンモニウム存在下で水熱処理によって合成した。WO₃フレームワークにTaを組み込んで,層間隔を拡張させ,バンドギャップを高エネルギー側に移行させた。Ta添加hex-WO₃のSr²⁺吸着能は,hex-WO₃の当該値よりも著しく高かった。Sr²⁺吸着は,酸性溶液中では2h以内に平衡に達した。Sr²⁺の最大除去はpH4で起った。hex-WO₃によるSr²⁺吸着は,Langmuirモデルによるよりも,Freundlichモデルによって良好に記述された。Sr²⁺のhex-WO₃への吸着は,本研究条件下では,自発的であった。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 産業廃棄物 ,  放射性廃棄物 ,  廃棄物処理 ,  産業廃水 ,  *廃水処理 ,  ストロンチウム化合物 ,  酸化タングステン ,  六方晶系 ,  吸着剤 ,  化学修飾 ,  タンタル化合物 ,  添加剤 ,  添加物効果 ,  吸着等温式 ,  吸着平衡 ,  分離効率 ,  性能分析 ,  最適条件 ,  *放射性物質 ,  廃棄物 ,  液状廃棄物

分類 (4件)： 放射性廃棄物  (MB05000Y) ,  汚染原因物質一般  (SB05010P) ,  産業廃水処理  (SC03080D) ,  産業廃棄物処理  (SC05040Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： ストロンチウム ,  タンタル ,  六方晶系 ,  酸化タングステン ,  吸着