文献

J-GLOBAL ID：201402261193507077   整理番号：14A0185751

溶解ヘミンによる酸素分子の接触還元の不可逆性

Irreversibility of catalytic reduction of dioxygen by dissolved hemin

著者 (4件)： AOKI Koichi Jeremiah ,  LI Wenwen ,  CHEN Jingyuan ,  NISHIUMI Toyohiko
資料名： Journal of Electroanalytical Chemistry  (Journal of Electroanalytical Chemistry)
巻： 713  ページ： 131-135  発行年： 2014年01月15日 
JST資料番号： D0037A  ISSN： 1572-6657  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 通気ジメチルスルホキシド中のヘミンは,触媒反応の利得電圧0.5Vでガラス状炭素電極において酸素分子の還元に触媒作用を及ぼした。還元電流として観測した触媒反応速度は,酸素分子の濃度の増加に伴って増加したが,6%の飽和濃度で最大に達した。ボルタンメトリーピーク電流はスキャン速度と線形関係を有した。これらの変化は一般的な触媒機構とは異なり,そこでは酸素分子によって酸化したヘミンは電気化学的還元に再利用できる可能性があった。脱気ヘミン溶液中のボルタンメトリーピーク電流は拡散制御されたが,一方通気溶液中のそれは拡散電流と表面波の和として表された。触媒電流は,その吸着密度が単層の量に近かった酸素分子を取り込んだヘミンによって引き起こされた。従って,ヘミン膜は酸素分子の連続還元に適していなかった。一旦吸着層が電気化学的に酸化され吸着膜を除去すると,接触還元波を取り戻した。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ヘミン ,  *酸素 ,  *二原子分子 ,  *接触還元 ,  *不可逆性 ,  炭素電極 ,  反応速度 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  吸着 ,  薄膜 ,  *カソード還元 ,  脂肪族化合物 ,  スルホキシド
準シソーラス用語： *酸素分子 ,  ガラス状炭素電極 ,  吸着膜

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

物質索引 (1件)： ジメチルスルホキシド

タイトルに関連する用語 (5件)： 溶解 ,  ヘミン ,  酸素分子 ,  接触還元 ,  不可逆性