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J-GLOBAL ID：201402263268232250   整理番号：14A0454731

高せん断成形加工技術により創製した新規ナノコンポジットの構造と物性

Morphology and Properties of Nanocomposites Fabricated by High-Shear Processing

著者 (2件)： 清水博 ((株) HSPテクノロジーズ) ,  LI Yongjin (中国杭州師範大学材料工学科)
資料名： 高分子論文集  (Japanese Journal of Polymer Science and Technology)
巻： 71  号： 3  ページ： 69-88 (J-STAGE)  発行年： 2014年 
JST資料番号： G0122A  ISSN： 0386-2186  CODEN： KBRBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 筆者らが開発した高せん断成形加工技術の概要を示し,この技術を用いて四つのカテゴリーに分類される系について新規ナノコンポジットを創製した.これらはそれぞれ,1)高分子/高分子系,2)高分子/フィラー系,3)高分子/高分子/フィラー系(三元系),4)高せん断場と反応場との統合,である.これらナノコンポジットにおいて形成されたナノ構造やナノ分散構造を透過型電子顕微鏡(TEM)観察,元素識別型TEM-EDX解析,さらには小角X線散乱(SAXS)解析などから解析した.さらに,これらナノ構造に由来して発現する多様な物性についてもそれぞれ考察した.高せん断成形加工技術は,多様な非相溶性高分子ブレンド系のナノ混合化や相溶化を実現できるだけでなく,CNTや各種ナノサイズフィラーを高分子にナノ分散できる技術でもあるため,多様なナノコンポジット創製技術としての展開が期待される.さらに,本技術がリアクティブプロセシングとしても利用可能であることを示した.(著者抄録)

シソーラス用語： *ナノ複合材料 ,  小角X線散乱 ,  充填剤 ,  相溶化剤 ,  *分散【dispersion】 ,  反応場 ,  *剪断加工 ,  剪断応力 ,  *高分子加工 ,  透過型電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  ポリフッ化ビニリデン ,  SEBS ,  高密度ポリエチレン ,  PLLA ,  ポリマブレンド ,  ミクロ相分離 ,  剪断速度 ,  ナノ構造 ,  モルフォロジー ,  結晶度 ,  粘弾性 ,  カーボンナノチューブ ,  高分子有機-無機ハイブリッド ,  応力歪曲線 ,  応力歪特性 ,  ナイロン6 ,  押出機 ,  高分子加工機 ,  押出成形
準シソーラス用語： EDX分析 ,  HDPE ,  PVDF ,  SAXS【散乱】 ,  フィラー【充填剤】 ,  動的粘弾性

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  物理的性質一般  (YH02021U) ,  成形工程とその装置一般  (YH04030C)

引用文献 (28件)：

• 1) U. Sundararaj and C. W. Macosko, Macromolecules, 28, 2647 (1995).
• 2) H. Shimizu, K. Komori, and T. Inoue, Trans. Mater. Res. Soc. Jpn., 29, 263 (2004).
• 3) 清水 博, 李 勇進 (独立行政法人産業技術総合研究所), 井元俊之 ((株)井元製作所), 特許4745684 (2011).
• 4) 清水 博, 李 勇進 (独立行政法人産業技術総合研究所), 井元俊之 ((株)井元製作所), 特許5238926 (2013).
• 5) “Polymer Handbook”, 4th edition, J. Brandrup, E. H. Immergut, and E. A. Grulke, eds., Wiley Interscience (2003).

タイトルに関連する用語 (5件)： せん断 ,  成形加工 ,  創製 ,  ナノコンポジット ,  物性