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J-GLOBAL ID：201402264707914229   整理番号：14A0442246

珪素と炭素の表面からの低エネルギー正/負水素イオン反射に及ぼす粗さと温度の影響

Effects of roughness and temperature on low-energy hydrogen positive and negative ion reflection from silicon and carbon surfaces

著者 (12件)： TANAKA N. (Inst. of Laser Engineering, Osaka Univ., Suita, Osaka 565-0871, JPN) ,  KATO S. (Graduate School of Sci. and Engineering, Doshisha Univ., Kyotanabe, Kyoto 610-0321, JPN) ,  MIYAMOTO T. (Graduate School of Sci. and Engineering, Doshisha Univ., Kyotanabe, Kyoto 610-0321, JPN) ,  NISHIURA M. (National Inst. for Fusion Sci., Toki, Gifu 509-5292, JPN) ,  TSUMORI K. (National Inst. for Fusion Sci., Toki, Gifu 509-5292, JPN) ,  MATSUMOTO Y. (Tokushima Bunri Univ., Yamashiro, Tokushima 770-8514, JPN) ,  KENMOTSU T. (Fac. of Life and Medical Sciences, Doshisha Univ., Kyotanabe, Kyoto 610-0321, JPN) ,  OKAMOTO A. (School of Engineering, Tohoku Univ., Aoba, Sendai, Miyagi 980-8579, JPN) ,  KITAJIMA S. (School of Engineering, Tohoku Univ., Aoba, Sendai, Miyagi 980-8579, JPN) ,  SASAO M. (Organization for Res. Initiatives and Dev., Doshisha Univ., Kyotanabe, Kyoto 610-0321, JPN) ,  WADA M. (Graduate School of Sci. and Engineering, Doshisha Univ., Kyotanabe, Kyoto 610-0321, JPN) ,  YAMAOKA H. (RIKEN SPring-8 Center, Mikazuki, Sayo, Hyogo 679-5148, JPN)
資料名： Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)
巻： 85  号： 2  ページ： 02C311-02C311-4  発行年： 2014年02月 
JST資料番号： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1keVの陽子を照射した粗いSi表面から発生した正/負水素イオンの角度分解したエネルギー分布関数を測定した。比較の為に,結晶表面と炭素表面からの対応する分布も測定した。粗いSiからの正/負イオンの強度は結晶Siからのそれよりも実質的に小さかった。これらの種の角分布は結晶表面よりも粗い表面で広かった。全ての試料で正/負イオン強度の有意な温度依存性は300~400Kの温度領域で観測されなかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 陽子 ,  *陽子照射 ,  角分布 ,  エネルギー分布 ,  分布関数 ,  *ケイ素 ,  表面粗さ ,  温度依存性 ,  炭素 ,  反射スペクトル ,  イオン強度 ,  カチオン ,  アニオン
準シソーラス用語： *水素イオン

分類 (1件)： イオンとの相互作用  (BK16070Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 珪素 ,  炭素 ,  低エネルギー ,  水素イオン